金屬蝕刻網(wǎng)片的熔煉過程：

1）一：這個(gè)階段主要是起弧。電爐通電后，電極發(fā)射熱電子，從陰極發(fā)出大量電子，高速電子可使中性的空氣分子離解成離子，從而空氣具有導(dǎo)電能力，產(chǎn)生電弧，釋放出大量的光和熱。

2）二：這個(gè)階段主要是電極穿井和極下爐料的熔化。通電起弧后，電極下的爐料受熱熔化。隨著熔化的進(jìn)行，經(jīng)過15-25分鐘的時(shí)間，電極降到低位置。在此階段，電弧始終被爐料包圍，電弧所放出的熱量絕大部分用于加熱和熔化爐料，對(duì)爐蓋的熱輻射很少，應(yīng)該向爐內(nèi)輸送大功率。不銹鋼牌號(hào)分:200系列—鉻-鎳-錳奧氏體不銹鋼300系列—鉻-鎳奧氏體不銹鋼型號(hào)301—延展性好，用于成型產(chǎn)品。

3）三：這一階段主要是電極四周爐料的熔化和電極的回升。隨著熔化的進(jìn)行，液面不斷上升，電極也就相應(yīng)地上升。在回升過程中，周圍的爐料逐漸熔化，當(dāng)爐內(nèi)只有爐坡和爐底還剩部分未熔爐料，即全部爐料熔化80%左右，這一階段結(jié)束。在這個(gè)階段，電弧在大部分時(shí)間中仍被冷料包圍，應(yīng)仍向爐內(nèi)輸送大功率。NaOH濃度對(duì)蝕刻速度影響NaOH濃度對(duì)蝕刻速度影響：在蝕刻溫度不變的情況下，增加NaOH濃度，蝕刻速度加快。

4）四：這個(gè)階段主要是低溫爐區(qū)爐料的熔化。電弧是點(diǎn)熱源，爐膛內(nèi)的溫度分布不均勻，爐門附近，出鋼口兩側(cè)等處的爐料熔化較慢。應(yīng)及時(shí)將這些地方的冷料推入熔池。在此階段液面仍緩慢上升，鋼水溫度已經(jīng)升高，電弧開始暴露在液面上，輻射加強(qiáng)，應(yīng)該適當(dāng)降低輸入功率和電壓。不銹鋼的耐腐蝕性取決于鉻，但是因?yàn)殂t是鋼的組成部分之一，所以保護(hù)方法不盡相同。

第二和第三階段是熔化過程的主要階段，占全部時(shí)間的70-80%，是決定熔化期時(shí)間長(zhǎng)短的主要因素。

興之揚(yáng)腐蝕不銹鋼網(wǎng)片小編給大家介紹什么是濕式蝕刻技術(shù)：

早期的蝕刻技術(shù)是利用特定的溶液與薄膜間所進(jìn)行的化學(xué)反應(yīng)來除薄膜未被光阻覆蓋的部分，而達(dá)到蝕刻的目的，這種蝕刻方式也就是所謂的濕式蝕刻。因?yàn)闈袷轿g刻是利用化學(xué)反應(yīng)來進(jìn)行薄膜的去除，而化學(xué)反應(yīng)本身不具方向性，因此濕式蝕刻過程為等向性，一般而言此方式不足以定義3微米以下的線寬，但對(duì)于3微米以上的線寬定義濕式蝕刻仍然為一可選擇采用的技術(shù)。如通常用作裝修管板的奧氏體型的304不銹鋼板材質(zhì)，一般來講是無磁性的，但因冶煉造成化學(xué)成分波動(dòng)或加工狀態(tài)不同也可能泛起磁性，這不能以為不是真的或分歧格。

濕式蝕刻之所以在微電子制作過程中被廣泛的采用乃由于其具有低成本、高可靠性、高產(chǎn)能及優(yōu)越的蝕刻選擇比等優(yōu)點(diǎn)。但相對(duì)于干式蝕刻，除了無法定義較細(xì)的線寬外，濕式蝕刻仍有以下的缺點(diǎn)：1)需花費(fèi)較高成本的反應(yīng)溶液及去離子水；2)化學(xué)藥品處理時(shí)人員所遭遇的安全問題；3)光阻附著性問題；系統(tǒng)每天都開，但板子不是連續(xù)運(yùn)行的，所以水會(huì)因揮發(fā)造成損失，但這種損失遠(yuǎn)少于從NHOH添加液中獲得的量。4)氣泡形成及化學(xué)蝕刻液無法完全與晶圓表面接觸所造成的不完全及不均勻的蝕刻。

興之揚(yáng)金屬蝕刻網(wǎng)片小編給大家介紹濕式蝕刻過程可分為三個(gè)步驟：

1)化學(xué)蝕刻液擴(kuò)散至待蝕刻材料之表面；2)蝕刻液與待蝕刻材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)；3)反應(yīng)后之產(chǎn)物從蝕刻材料之表面擴(kuò)散至溶液中，并隨溶液排出(3)。三個(gè)步驟中進(jìn)行慢者為速率控制步驟，也就是說該步驟的反應(yīng)速率即為整個(gè)反應(yīng)之速率。

大部份的蝕刻過程包含了一個(gè)或多個(gè)化學(xué)反應(yīng)步驟，各種形態(tài)的反應(yīng)都有可能發(fā)生，但常遇到的反應(yīng)是將待蝕刻層表面先予以氧化，再將此氧化層溶解，并隨溶液排出，如此反復(fù)進(jìn)行以達(dá)到蝕刻的效果。如蝕刻鋁、硅時(shí)即是利用此種化學(xué)反應(yīng)方式。