東莞模具電鍍化學(xué)鎳是用恢復(fù)劑把溶液中的鎳離子恢復(fù)堆積在具有催化活性的表面上。化學(xué)鎳可以選用多種恢復(fù)劑，現(xiàn)在工業(yè)上使用廣泛的是以次磷酸鈉為恢復(fù)劑的化學(xué)鎳工藝，其反應(yīng)機(jī)理，廣泛被承受的是“氫化物理論”和“原子氫理論”?；瘜W(xué)鍍鎳加工水性關(guān)閉劑具有閃點(diǎn)高、可水溶性、不燒，運(yùn)用安全、環(huán)保、無(wú)鉻、無(wú)排放等長(zhǎng)處。可稀釋或原液運(yùn)用，非常簡(jiǎn)略，只需常溫浸泡，運(yùn)用壽命長(zhǎng)，耐腐蝕性能提高5-20倍。

電鍍是利用電源能將鎳陽(yáng)離子轉(zhuǎn)換成金屬鎳沉積到陽(yáng)極上，用化學(xué)還原的方法是使鎳陽(yáng)離子還原成金屬鎳并沉積在基體金屬表面上，試驗(yàn)表明，鍍層中氫的夾入與化學(xué)還原反應(yīng)無(wú)關(guān)，而與電鍍條件有很大關(guān)系，通常鍍層中的含氫量隨電流密度的增加而上升。

在電鍍鎳液中，除了一小部分氫是由NiSO4和H2PO3反應(yīng)產(chǎn)生以外，大部分氫是由于兩極通電時(shí)發(fā)生電極反應(yīng)引起的水解而產(chǎn)生，在陽(yáng)極反應(yīng)中，伴隨著大量氫的產(chǎn)生，陰極上的氫與金屬Ni—P合金同時(shí)析出，形成（Ni—P）H，附著在沉積層中，由于陰極表面形成超數(shù)量的原子氫，一部分脫附生成H2，而來(lái)不及脫附的就留在鍍層內(nèi)，留在鍍層內(nèi)的一部分氫擴(kuò)散到基體金屬中，而另一部分氫在基體金屬和鍍層的缺陷處聚集形成氫氣團(tuán)，該氣團(tuán)有很高的壓力，在壓力作用下，缺陷處導(dǎo)致了裂紋，在應(yīng)力作用下，形成斷裂源，從而導(dǎo)致氫脆斷裂。氫不僅滲透到基體金屬中，而且也滲透到鍍層中，據(jù)報(bào)道，電鍍鎳要在400℃×18h或230℃×48h的熱處理之后才能基本上除去鍍層中的氫，所以電鍍鎳除氫是很困難的，而化學(xué)鍍鎳不需要除氫。

        化學(xué)鍍鎳技術(shù)時(shí)現(xiàn)在金屬制品表面使用較多的一種鍍層工藝，化學(xué)鍍鎳工藝能夠使金屬制品表面更加美觀的同時(shí)也更加的耐用。

        化學(xué)鍍鎳技術(shù)優(yōu)點(diǎn)

        1、以次磷酸鈉為還原劑時(shí)，由于有磷析出，發(fā)生磷與鎳的共沉積，所以化學(xué)鍍鎳層是磷呈彌散態(tài)的鎳磷合金鍍層，鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%～l5%，控制磷含量得到的鎳磷鍍層致密、無(wú)孔，耐蝕性遠(yuǎn)優(yōu)于電鍍鎳。鍍環(huán)保鎳工廠