曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準確性，因此在制作上，需要非常準確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產品品質。經過不斷改良和工藝設備發(fā)展，曝光就是光圈、快門和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯合決定進光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。

干膜盡可能平整且厚度均勻。要求干膜應具有很好的柔韌性、良好的塑性、流動性與粘結性以確保達到無間隙貼膜。

顯影要充分。顯影是與下道工序直接相連的重要工序，其質量的好與壞是整個圖形轉移成功與否的重要標志。

首先是預處理，蝕刻材料要處理干凈，絲印油墨時要保證油墨厚度適中，一般在0.12-0.14mm，當然看每個工廠的實際情況與工藝。接下來是烘烤油墨，要控制溫度和烘烤速度，一般來說烘烤溫度控制在90℃±5℃。

滲鍍：所謂滲鍍，即是由于干膜與覆銅箔板表面粘結不牢，使鍍液深入，而造成"負相"部分鍍層變厚及鍍好的錫鉛抗蝕層，給蝕刻帶來問題。很容易造成印制電路板的報廢，是生產中特別要注意的要點。不同的消費者喜歡的東西是不一樣的，就好比同樣是海賊王中的動漫人物，有人喜歡路飛、而有人卻喜歡索隆、喬巴、娜美等。曝光后要檢測曝光后的圖形質量，若有遺漏需要進行人工補油補點。補油后需要進行第二次烘烤。

曝光顯影是蝕刻工藝中非常重要的部分，它是圖案準確度的決定性因素，因此曝光顯影管控非常重要。蝕刻加工的優(yōu)點主要體現在：產品沒有毛刺，大批量，密集的小孔同樣可以穩(wěn)定的批量生產.精密度可以更高，較高管控的精度可以達到 /-0.005mm,特別適合精密薄材的不銹鋼，銅等材料的蝕刻加工，其優(yōu)點主要體現在不變形，公差要求嚴.加工出的產品沒有毛刺、無臟污、表面光滑，蝕刻加工其他機械工藝無法加工的高精密產品！