ITO真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)特點(diǎn)

1)真空室體資料選用SUS304，真空室內(nèi)壁進(jìn)行拋光處理，外壁選用拋光后噴珠處理。

2)真空室之間選用獨(dú)立門閥-插板閥隔開，能夠完成有用隔斷，安穩(wěn)技能氣體?，F(xiàn)在咱們至成真空科技選用插板閥規(guī)劃，它比現(xiàn)在國(guó)內(nèi)通用的翻板閥密封作用非常好，更經(jīng)用。

3)傳動(dòng)選用磁導(dǎo)向，確保傳動(dòng)的安穩(wěn)性。整條出產(chǎn)線的各段速度選用變頻調(diào)速電機(jī)驅(qū)動(dòng)，運(yùn)轉(zhuǎn)速度可調(diào)理。

4)真空電鍍?cè)O(shè)備電氣操控體系：觸摸屏與PLC自動(dòng)操控，人機(jī)對(duì)話辦法來(lái)完成體系的數(shù)據(jù)顯現(xiàn)、操作與操控

離子真空鍍膜機(jī)鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法是怎樣的呢？

離子真空鍍膜機(jī)鍍膜產(chǎn)品表面大多采用過(guò)渡族金屬（如Ti、Zr、Cr）或其合金的氮、碳、氧的化合物，還有用非晶碳（類金剛石）膜的。一般來(lái)說(shuō)，這些化合物本身的化學(xué)惰性比較高，耐腐蝕性能很好。但是一些裝飾鍍層產(chǎn)品包括表件、手機(jī)殼、高爾夫球頭等，卻未能通過(guò)人工汗腐蝕試驗(yàn)或中性鹽霧腐蝕試驗(yàn)。裝飾鍍層產(chǎn)品的腐蝕不單是鍍層本身的耐蝕性問(wèn)題，還包括裝飾鍍層 基體的系統(tǒng)腐蝕問(wèn)題。許多研究工作都表明離子鍍裝飾鍍層自身耐蝕性好，它鍍?cè)诮饘伲ㄈ绮讳P鋼）基體上，對(duì)基體整體均勻抗腐蝕能力有提高，但裝飾鍍層很薄，不可避免地存在表面缺陷﹐如微裂紋、微孔、孔、柱狀晶界、電弧沉積的宏觀顆粒等。腐蝕介質(zhì)可通過(guò)這些缺陷所形成的通道，穿過(guò)鍍層到達(dá)基體。

采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層有什么優(yōu)勢(shì)

采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD膜層能直接鍍?cè)诓讳P鋼、硬質(zhì)合金上、鈦合金、陶瓷等表面，對(duì)鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD。PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.1μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~2μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。

多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)具有以下特點(diǎn)：可以任意安裝使薄膜均勻。外加磁場(chǎng)可以改善電弧放電；使電弧細(xì)碎；旋轉(zhuǎn)速度加快；細(xì)化膜層微粒；對(duì)帶電粒子產(chǎn)生加速作用。金屬離化率高，有利于薄膜的均勻性和提高附著力，是實(shí)現(xiàn)離子鍍膜的良好工藝。一弧多用，既是蒸發(fā)源，又是預(yù)轟擊凈化源和離化源。