真空磁控濺射鍍膜機(jī)鍍鋁時,會碰到哪些問題

真空磁控濺射鍍膜機(jī)能鍍各種物質(zhì)和各式各樣的膜層，比喻：鍍金、鍍銀、鍍鈦等等，運(yùn)用行業(yè)有裝飾、五金、陶瓷、等等，運(yùn)用非常廣泛。但是還是有很多人，對真空磁控濺射鍍膜機(jī)不是很了解，特別是剛進(jìn)入這個行業(yè)的人，今天小編要為大家詳細(xì)講解真空磁控濺射鍍膜機(jī)在鍍鋁的過程中，會經(jīng)常碰到哪些問

真空磁控濺射鍍膜機(jī)真空鍍鋁是在真空狀態(tài)下，將鋁金屬加熱熔融至蒸騰，鋁原子凝結(jié)在高分子材料外表，構(gòu)成極薄的鋁層。真空鍍鋁請求基材外表潤滑、平坦、厚度均勻;挺度和摩擦系數(shù)恰當(dāng);外表張力大于38Dyn/Cm2;熱性能好，經(jīng)得起蒸騰源的熱輻射和冷凝熱的效果;基材含水量低于0.1%。常用的鍍鋁基材有聚酯(PET)、聚(PP)、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、聚(PVC)等薄膜。

真空鍍膜設(shè)備實(shí)驗(yàn)分析與討論蒸發(fā)磁控濺射鍍膜機(jī)

蒸發(fā)磁控濺射真空鍍膜設(shè)備是設(shè)備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子離化沉積在基材上和真空中利用電阻加熱法對金屬絲進(jìn)行處理,

利用特定薄膜涂層實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品不導(dǎo)電和電磁屏蔽的作用,以滿足現(xiàn)行手機(jī)的電子產(chǎn)品制造行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。

產(chǎn)品相關(guān):真空電鍍設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備

這種設(shè)備集中了等離子體處理,陰極磁控濺射,電阻蒸發(fā)鍍膜裝置,工作可靠、重復(fù)性一 致性良好、沉積速率高快,附著力好,

膜層品質(zhì)細(xì)膩，可保持原有工件表面光潔,具有韌性好,不易脫落。過程中實(shí)現(xiàn)了鍍膜工藝全自動化控制,在基材表面利用真空鍍膜方法進(jìn)行涂層,蒸發(fā)磁控濺射鍍膜機(jī)具有生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品合格率高、綠色環(huán)保等特點(diǎn),主要適用于電腦、手機(jī)、工業(yè)電子電器、可鍍制復(fù)合金屬膜、合金膜電磁屏蔽膜及特殊膜層等領(lǐng)域。

真空鍍膜設(shè)備中頻磁控濺射知識

真空鍍膜設(shè)備中頻磁控濺射知識 源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。 不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場靜止靶源。 用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O），等離子體，和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強(qiáng)的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。