光學(xué)鍍膜材料真空應(yīng)用領(lǐng)域

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因多方面

二次污染造成的洗凈的玻璃在鍍膜前需經(jīng)過(guò)加熱，抽真空和濺射等過(guò)程，而使玻璃再次污染，從而使玻璃鍍膜后產(chǎn)生。玻璃加熱過(guò)程中再污染是加熱室或?yàn)R射室不干凈，而對(duì)玻璃再污染，這些污染源主要來(lái)源于擴(kuò)散泵返油、加熱室或?yàn)R射室內(nèi)臟、靶玻璃材濺射產(chǎn)生靶灰，殘余氣體壓強(qiáng)高等諸多方面。因?yàn)橐话愕墓腆w物質(zhì)，每單位表面積上的分子數(shù)大約為10個(gè)左右，在常Pa的壓強(qiáng)下，每秒鐘撞表面的分子數(shù)大體上相當(dāng)于覆蓋物質(zhì)積的分子數(shù)。在殘余氣體壓強(qiáng)為10的情況下，假如以每秒一層原子左右的形成速度進(jìn)行鍍膜時(shí)，則蒸發(fā)的原子和殘余氣體的分子幾乎是以相同的幾率碰撞基片。在濺射過(guò)程中在充入氣時(shí)壓強(qiáng)為10～10時(shí)所形成膜的速度和蒸發(fā)條件下基本相同。

熱成型模真空鍍膜機(jī)有什么優(yōu)勢(shì)：

熱擠壓模：熱擠壓過(guò)程中所使用的鐵合金與非鐵合金工具必須經(jīng)受因腐蝕與超高溫而產(chǎn)生的高成形壓力，嚴(yán)重的磨粒磨損以及粘著磨損。HC物理氣相沉積涂層與HC化學(xué)氣相沉積涂層展現(xiàn)了其高韌性，耐磨性，抗腐蝕性以及熱穩(wěn)定性，而這些性能恰恰能夠明顯地提高工具的使用效率。HC化學(xué)氣相沉積涂層通常適用于擁有復(fù)雜幾何圖形和較大長(zhǎng)寬比的工具。HC08,HC10或HC29涂層適用于公差要求不高的工具，而結(jié)合了滲氮處理的HC35,HC22或HC30涂層適用于公差要求很高的熱擠壓工具。

熱鍛模：熱鍛造過(guò)程中所使用的工具必須經(jīng)受高成形壓力，嚴(yán)重的磨粒磨損以及粘著磨損，并且需要經(jīng)歷要求嚴(yán)苛的熱環(huán)境條件。另外，它們必須經(jīng)受高水平的沖擊，因此地提升工具性能變得更具挑戰(zhàn)性。HC物理氣相沉積涂層具有高韌性，耐磨性，熱穩(wěn)定性以及抗擦傷性，而這些性能恰恰能夠提高工具的使用效率以及鐵合金與非鐵合金產(chǎn)品的質(zhì)量。

結(jié)合了滲氮處理的HC22,HC25與HC30涂層適用于熱鍛造工具。