真空鍍膜設備_磁控濺射鍍膜設備技術(shù)應用

蒸發(fā)和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機，主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。由于鍍膜室為立式容器，所以它具有臥式鍍膜機的一切優(yōu)點，又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡，更可方便地實現(xiàn)自動生產(chǎn)線，是替代傳統(tǒng)濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設備。本機鍍部分產(chǎn)品可不做底油。

真空鍍膜設備機主要特點配用改進型高真空排氣系統(tǒng)，抽速快、、節(jié)電、降噪和延長泵使用壽命;實現(xiàn)蒸發(fā)、磁控濺射、自動控制，操作簡單，工作可靠;蒸發(fā)鍍應用新型電極引入裝置，接觸電阻小且可靠;磁控濺射應用鍍膜材料廣泛，各種非導磁的金屬、合金均可作鍍料;結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小;磁控、蒸發(fā)共用兩臺立式工件車，操作方便。

(或雙門蒸發(fā)、磁控兩用機)至成真空科技業(yè)務范圍真空鍍膜成套設備與技術(shù)，真空工程用各種泵、閥、真空計、油、脂、密封件，真空鍍膜材料、涂料、金屬及合金制品。

真空鍍膜設備故障診斷與排除、老產(chǎn)品改造。新型塑料、金屬、玻璃等制品表面處理工藝及技術(shù)研究，咨詢服務。新技術(shù)、新設備、新工藝至成真空科技新開發(fā)的磁控、蒸發(fā)多用鍍膜機，配用改進型高真空抽氣系統(tǒng)及全自動控制系統(tǒng)，抽速快、、操作簡單、工作可靠;具有可鍍膜系廣、膜層均勻、附著力好、基板溫度底等特點;是鍍制金屬、合金及化合物膜的理想設備;適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已廣泛應用在光學、電子、通訊、航空等領域。

真空鍍膜機離子鍍是什么?

很多人聽說過離子真空鍍膜機，但是對于真空鍍膜機離子鍍了解甚少，離子鍍是一種鍍膜工藝中的一種，下面為大家詳細介紹一下：首先給大家它定義：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。

它的原理是：蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性Ar氣，在放電電場作用下部分Ar氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的Ar離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同Ar離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

它能分為四類：①磁控濺射離子鍍。②反應離子鍍。③空心陰極放電離子鍍。④多弧離子鍍。

它的特點：鍍層附著性能好，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生；繞鍍能力強，因此這種方法非常適合于鍍復零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫，等其他方法難鍍的部位；鍍層質(zhì)量好，離子真空鍍膜機鍍膜的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻；清洗過程簡化。

離子真空鍍膜機鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法是怎樣的呢？

離子真空鍍膜機鍍膜產(chǎn)品表面大多采用過渡族金屬（如Ti、Zr、Cr）或其合金的氮、碳、氧的化合物，還有用非晶碳（類金剛石）膜的。一般來說，這些化合物本身的化學惰性比較高，耐腐蝕性能很好。但是一些裝飾鍍層產(chǎn)品包括表件、手機殼、高爾夫球頭等，卻未能通過人工汗腐蝕試驗或中性鹽霧腐蝕試驗。裝飾鍍層產(chǎn)品的腐蝕不單是鍍層本身的耐蝕性問題，還包括裝飾鍍層 基體的系統(tǒng)腐蝕問題。許多研究工作都表明離子鍍裝飾鍍層自身耐蝕性好，它鍍在金屬（如不銹鋼）基體上，對基體整體均勻抗腐蝕能力有提高，但裝飾鍍層很薄，不可避免地存在表面缺陷﹐如微裂紋、微孔、孔、柱狀晶界、電弧沉積的宏觀顆粒等。腐蝕介質(zhì)可通過這些缺陷所形成的通道，穿過鍍層到達基體。