實(shí)際曝光bai能量需根據(jù)干膜種類、厚度du或油墨種類/厚度/烘烤時(shí)間確定，正常線路曝光使zhi用能量40 -- 120mj/cm2，油墨曝光能dao量150-500mJ/cm2，具體以曝光尺為準(zhǔn)；線路曝光尺5 --8格，油墨的曝光尺做到9--13格。

曝光時(shí)必須抽真空充分，以免曝光不良，一般要求650mmHg以上真空度；

顯影時(shí)，顯影點(diǎn)控制在50 --70%以內(nèi)，壓力1.5--2.0kg/cm2。

曝光過度會(huì)導(dǎo)致顯影不凈；曝光能量不足會(huì)導(dǎo)致顯影過度。

若干膜超過有效期使用，這層粘結(jié)劑就會(huì)失效，在貼膜后的電鍍過程中夾失保護(hù)作用，形成滲鍍。解決的方法就是在使用前認(rèn)真檢查干膜的有效使用周期。溫度與濕度對(duì)貼膜的影響：不同的干膜都有比較適宜的貼膜溫度。所使用的為水熔性干膜，空氣中的濕度對(duì)其影響較大。當(dāng)濕度較大時(shí)，干膜的粘結(jié)劑在貼膜溫度較低時(shí)可達(dá)到良好的粘結(jié)效果。


特別南方地區(qū)夏季氣溫偏高，從長期的實(shí)踐中摸索一套較好的溫度控制參數(shù)，在20-250C情況下，相對(duì)濕度75％以上時(shí)，貼膜溫度低于730C較好；相對(duì)濕度為60-70％時(shí)，貼膜溫度70-800C較好；曝光時(shí)間過長或曝光不足：在紫外光照射下，吸收了光能量的光引發(fā)劑分解成游離基引發(fā)單體進(jìn)行光聚合反應(yīng)，形成不溶于稀堿的溶液的體型分子。要使每種干膜聚合效果比較好，就必須有一個(gè)好的曝光量。

正膠顯影：正性光刻i膠的曝光區(qū)的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻膠上形成三維圖形。

負(fù)膠顯影：在負(fù)性光刻膠的非曝光區(qū)的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻膠上形成三維圖形。

正膠具有很好的對(duì)比度，所以生成的圖形具有良好的分辨率，其他特性如，臺(tái)階覆蓋好、對(duì)比度好；粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。

負(fù)膠的特性為，具有良好的粘附能力和阻擋作用、感光速度快；顯影時(shí)發(fā)生變形和膨脹，所以只能用于2μm的分辨率。