光刻膠工藝

普通的光刻膠在成像過程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，降低了光刻膠圖形的對比度，從而降低了圖形的分辨率。隨著曝光加工特征尺寸的縮小，入射光的反射和散射對提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高曝光系統(tǒng)分辨率的性能，F(xiàn)uturrex 的光刻膠正在研究在曝光光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術(shù)。該技術(shù)的引入，可明顯減小光刻膠表面對入射光的反射和散射，從而改善光刻膠的分辨率性能，但由此將引起工藝復(fù)雜性和光刻成本的增加。0μmi、g和h線曝光波長曝光對生產(chǎn)效率的影響：金屬和介電質(zhì)圖案化時省去干法刻蝕加工不需要雙層膠技術(shù)NR71-1500PY1。

LCD市場助力

全球LCD面板總出貨面積增長，LCD光刻膠需求增加。據(jù)WitsView數(shù)據(jù)，雖然近三年國際LCD廠商面板出貨量有所下降，但是由于大屏顯示的市場擴(kuò)增，LCD整體出貨面積變大，2016年出貨總面積達(dá)到1.7億平方米，同比增長4.6%。隨著LCD出貨面積的持續(xù)增長，中國產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)預(yù)測，未來幾年全球LCD光刻膠的需求量增長速度為4%~6%。隨著國內(nèi)廠商占據(jù)LCD市場比重越來越大，國內(nèi)LCD光刻膠需求也會持續(xù)增長。目前，上游電子化學(xué)品（LCD用光刻膠）幾乎全部依賴進(jìn)口，必須加快面板產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵核心材料基礎(chǔ)研究與產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程，才能支撐我國微電子產(chǎn)業(yè)未來發(fā)展及國際“地位”的確立。

NR77-20000PMSDS

光刻膠運(yùn)輸標(biāo)識及注意事項

標(biāo)簽上標(biāo)明的意思

R標(biāo)識

R10 YI燃。

S標(biāo)識

S16  遠(yuǎn)離火源-禁止吸煙。

S 24 避免接觸皮膚。

S 33對靜電放電采取預(yù)防措施。

S 9  將容器保持在通風(fēng)良好的地方。

水生毒性

通過自然環(huán)境中的化學(xué)、光化學(xué)和微生物降解來分解。一般不通過水解降解。300 ppm對水生生物是安全的。鹵化反應(yīng)可能發(fā)生在水環(huán)境中。

?Futurrex

提供先進(jìn)化學(xué)技術(shù)的多樣化解決方案

成立于1985年,總部設(shè)在美國新澤西州，富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司

公司業(yè)務(wù)覆蓋范圍包括北美，亞太以及歐洲

基于多樣化的技術(shù)

應(yīng)用領(lǐng)域：微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機(jī)電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷

解決方案：的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程

客戶：從財富100強(qiáng)到以風(fēng)險投資為背景的設(shè)備研發(fā)及制造公司

使命

目標(biāo)

提供特殊化學(xué)品和全新工藝來增加客戶的產(chǎn)能

策略

提供獨(dú)特的產(chǎn)品來優(yōu)化生產(chǎn)制程，以提高設(shè)備能效

領(lǐng)的技術(shù)提升生產(chǎn)過程中的整體性價比

工藝步驟的減少降低了成本和產(chǎn)生瑕疵的可能

增加客戶的產(chǎn)能和生產(chǎn)的效率

工藝減化

非同尋常的顯微構(gòu)造、金屬及介電層上的圖形轉(zhuǎn)換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定

在生產(chǎn)過程中，不含有害溶劑

支持所有客戶的需要，與客戶共創(chuàng)成功