平面拋光機行業(yè)此刻正遭遇新一輪的洗牌，傳統(tǒng)的平面拋光機隨著廠家越來越多，技術(shù)越來越透明，所能帶來的利潤也逐漸微薄。至今，拋光技術(shù)在我國已經(jīng)達(dá)到了頂峰，各種拋光設(shè)備在中國都有生產(chǎn)，比如：超聲波拋光機，滾筒式拋光機，雙面拋光機，平面拋光機，離心式拋光機，振動拋光機。如何能突破瓶頸發(fā)展新的商機已是迫在眉睫。而國家扶持半導(dǎo)體的相關(guān)政策出來后，隨著硅片生產(chǎn)廠商的積極響應(yīng)，也給平面拋光機生產(chǎn)廠家?guī)砹诵碌钠鯔C。

目前以平面拋光機廠家已經(jīng)開始研發(fā)硅片磨拋技術(shù)，主要針對大尺寸硅片的研磨和拋光。形狀簡單的零件可以用硬拋光輪或拋光帶，形狀復(fù)雜的零件用軟拋光輪拋光。但是在機會之余，我們也面臨一些問題和挑戰(zhàn)，相對國外而言，我們的技術(shù)是比較落后的，要想盡快有所成就還需要先向日本，德國等地學(xué)習(xí)，然后在此基礎(chǔ)上進(jìn)行改良和完善，以適用我們國內(nèi)的生產(chǎn)環(huán)境。

在模具拋光中，工藝相對復(fù)雜，流程可以分為粗拋、半精拋、精拋幾步。模具拋光主要用機械拋光來進(jìn)行是為了得到更好的產(chǎn)品質(zhì)量與加工精度，而且相對于其它工藝，在成本上也相對廉宜。

在拋光的過程中，應(yīng)該分開在兩個工作地點來完成粗拋加工和精拋加工，而且要注意清洗干凈上一道工序殘留在工件表面的砂粒。圓管綜合力學(xué)性能好，焊接性，冷，熱加工性能和耐腐蝕性能均好，具有良好的低溫韌性。一般從油石到1200#砂紙完成粗拋光后，工件需轉(zhuǎn)移到無塵間進(jìn)行拋光，確?？諝庵袩o灰塵微粒粘在模具表面。如果要進(jìn)行更為精密的高精密拋光或者超精密拋光，則必須在潔凈的空間內(nèi)。

在拋光工藝完成后，工件表面要做好防護(hù)工作，避免工件表面遭到損壞。當(dāng)拋光過程停止時，應(yīng)仔細(xì)去除所有研磨劑和潤滑劑，保證工件表面整潔，隨后應(yīng)在工件表面噴涂一層模具防銹層。

要在風(fēng)道出風(fēng)口外接除塵裝置過濾灰塵。風(fēng)道的另一頭一般會留個小門，以便進(jìn)出清理風(fēng)道內(nèi)沉積的灰塵（有些被抽到外面）。

拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成，兩側(cè)用金屬圓板夾緊，其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。西漢時期的青銅鏡鏡面加工技術(shù)更是負(fù)有盛名，在《淮南子》中有所描述。 拋光時，高速旋轉(zhuǎn)的拋光輪（圓周速度在20米／秒以上）壓向工件，使磨料對工件表面產(chǎn)生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達(dá)Ra0.63～0.01微米;當(dāng)采用非油脂性的消光拋光劑時，可對光亮表面消光以改善外觀。

敏化現(xiàn)象。對于拋光來說，主要是在維持研磨所取得良好的平面度前提下，去除工件表面微小的凸起和表面損傷層，以獲得鏡面光度。不銹鋼因含有Cr在表面形成氧化鉻薄膜，失去化學(xué)活性，稱為鈍化狀態(tài)，但奧氏體系若經(jīng)過475~850℃溫度范圍時，C會與Cr結(jié)合生成碳化鉻（Cr23C6）析出在晶體邊界，因此晶界附近的Cr含量大減，成為貧Cr區(qū)。此時，其耐腐蝕性會降低，對腐蝕環(huán)境特別敏感，故稱為敏化現(xiàn)象。敏化現(xiàn)象在氧化酸的使用環(huán)境容易腐蝕，此外還有焊接熱影響區(qū)和熱間彎曲加工區(qū)。其防治方法有：

a) 在475~850℃溫度范圍升降時，迅速通過，讓Cr沒有足夠的時間和C結(jié)合，無法析出碳化鉻。

b) 對已經(jīng)發(fā)生敏化現(xiàn)象的不銹鋼施以高溫固溶化處理，加熱至足以使碳化鉻分解的溫度（1040~1150℃），然后急速冷卻，使碳化鉻來不及析出。

c) 選用低碳型不銹鋼加入304L、304LN、316L、316LN、316J1L、317L、317LN，使Cr無法與C結(jié)合。研磨加工過程就是利用游離磨粒對零件表面進(jìn)行刮削和擠壓去除材料的過程，達(dá)到提高平面度和降低表面粗糙度的目的。一般C含量在0.05%以下，焊接便不會產(chǎn)生晶界腐蝕，但須特別注意清潔，避免油污等含C物質(zhì)的污染。在含氫氧酸的混合酸中使用，C含量在0.03%以下。