鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬，雙向觀測，冷錐消除尾焰，具有更寬的動態(tài)線性范圍和更低的背景。

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，有效穩(wěn)定，體積小巧，匹配速度快，確保Plasma 3000

ICP光譜儀精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

高速面陣 CCD 采集技術，單次曝光獲取全部譜線信息，Plasma 3000 ICP光譜儀真正實現(xiàn)“全譜直讀”。

功能強大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程。應用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

鋼研納克擬負責起草ICP-AES國家標準

鋼研納克擬負責起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家標準

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，國家標準委決定發(fā)布通知對2014年第二批擬立項國家標準項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標準。主管部門為中國機械工業(yè)聯(lián)合會，歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標準化技術會，起草單位為鋼研納克檢測技術有限公司，計劃完成時間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標準將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標志、包裝、運輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標準旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準入門檻，形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距，提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項目起草單位鋼研納克檢測技術有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”成果。

鋼研納克“ICP痕量分析儀器的研制與應用”項目順利通過驗收

2016年4月12日，北京市科學技術會在鋼研納克永豐產(chǎn)業(yè)基地主持召開了國家重大科學儀器設備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”項目(項目編號2011YQ140147)初步驗收會議。

本次初步驗收會由李建玲處長主持，會議成立了項目初步驗收技術專家組，金國藩院士作為專家組組長。專家組聽取了項目及各承擔單位的匯報，審閱了相關資料，進行了現(xiàn)場檢查，經(jīng)質詢和討論，終形成了驗收評審意見。

和專家一致認為項目驗收材料齊全、規(guī)范，符合驗收要求。項目成功開發(fā)出具有自主知識產(chǎn)權的ICP全譜光譜儀、ICP質譜儀兩種痕量分析儀器整機，實現(xiàn)推廣應用;攻克了ICP射頻源、四極桿射頻源、激光燒蝕固體直接進樣系統(tǒng)、多位自動進樣裝置、基于中階梯光柵和大面積CCD采集的高分辨二維分光系統(tǒng)、碰撞反應池、中階梯光柵刻劃、四極桿等關鍵部件、關鍵技術及核心元器件技術和工藝難題;針對國內用戶的普遍特點和特殊需求，在儀器中集成了多功能開放性軟件、譜線和分析方法數(shù)據(jù)庫，提升國產(chǎn)分析儀器的國際競爭力。項目執(zhí)行期內共完成了分析方法、應用、對比報告51篇，形成行業(yè)標準8項，38項(其中授權19項)，軟件著作權4項，發(fā)表65篇。項目預期目標全部實現(xiàn)。

在工程化和產(chǎn)業(yè)化方面，項目牽頭單位已經(jīng)在永豐建成ICP光譜儀、ICP質譜儀產(chǎn)業(yè)基地，將可靠性管理的理論、工具、方法和裝備應用于分析儀器開發(fā)的全流程，建立了完整的質量管理體系，建設了ICP射頻源、激光燒蝕進樣系統(tǒng)、ICP全譜光譜儀、ICP質譜儀4條生產(chǎn)線。ICP全譜光譜儀已經(jīng)獲得生產(chǎn)許可證書，產(chǎn)品已經(jīng)銷售至寧夏、浙江、山東、新疆、湖南、河南及國外(伊朗)等地，產(chǎn)品經(jīng)過安裝和調試，均順利通過驗收。