真空爐選要根據所要熱處理的零件化學成分和加熱溫度完成須滿意金屬氧化物與平衡分。解壓的聯系而且要考慮必定的地步，不要尋求高的真空度，真空度過高不只會形成合金元素的蒸發(fā)，而且會形成設備的裝備提高出資費用增加。

冷。卻方式：真空爐的冷。卻有油冷和氣冷?，F在首要以氣冷為主，由于氣冷對熱處理零件無任何污染和不。良影響，油冷有外表微滲碳問題對質量有影響。處理后零件外表潔凈不需求清洗。所以在滿意冷。卻速度的條件下一般以氣冷淬火作為優(yōu)先。氣冷的冷。卻速度首要受氣壓、流速與氣流的方式和散布等要素的影響，在進行挑選時要考慮。一般狀況氣壓高、流速大、冷。卻速度快，即冷。卻速度是直接遭到氣壓和流速的影響。別的氣冷時換熱器冷。卻水的流量巨細關于實踐冷。卻有顯著的影響。

加熱元件方式：真空爐加熱元件的方式和資料有必定的不同一般以板式和棒式為多資料為高質量石墨。近年來CFC碳碳復合資料的呈現表現出較大的技術優(yōu)勢有替代石墨的趨勢。相同功率的狀況下CFC資料厚度薄相對蓄熱小有利于進步冷。卻速度。

功用：置辦爐子要考慮工藝的通用性即淬火回火運用溫度規(guī)模要寬。特別是處理高合金鋼回火溫度較高而且淬火后不出爐直接進行回火非常便利。

控制系統：控制系統是真空加熱爐的中心部分確保其可靠性和完善性及其重要。適當好有監(jiān)控和毛病顯現、記載功用關于進口設備需求裝備長途監(jiān)控功用這樣能夠確保毛病處理的及時性削減必定的修理費用。

真空爐使用注意事項

   要避免熱處理產品與電加熱元件接觸

   尤其銅、鋁、鋅、錫、鉛等與電加熱元件接觸，無論是細粉、溶液或蒸汽等，防止在電加熱體表面侵蝕形成“麻坑”，截面變小，后過熱而燒斷。

   真空爐注意溫觸點的捆綁方式

   測試爐溫均勻性時，應注意測溫觸點的定位捆綁方式，以及離加熱元件的遠近。

   爐內經常（至少每月）用毛刷、掃帚、或壓縮空氣、吸塵器等清潔爐膛，要防止爐內氧化皮等雜質掉在電熱元件上，發(fā)生短路，甚至燒壞發(fā)熱體。

   真空爐在升溫后，不能開啟爐門。

   特別是金屬發(fā)熱體，當高溫時直接接觸大氣會導致發(fā)熱體氧化，當爐內溫度在100°到160°時要開爐門，建議此時向爐內充上保護氣體（氮氣、氣）在開門。

   真空爐處理鈦合金時，不宜用氮氣作為冷卻氣體，因為鈦和氮在高溫下反應，形成金黃色的氮化鈦。

   真空爐活動連接部分全部采用o型密封圈連接，此部分均通水冷卻，特別要注意水的流量及溫度。

   真空爐在空閑時爐內應在真空環(huán)境下或是保護氣體的保護下，避免長時間不用吸氣吸潮。

   真空加熱以輻射為主，所以在擺放工件是應該留有一定的間隙，保證工件的溫度更加均勻

真空爐在平時的試驗中如果有液體存在，就需要一個液體蒸發(fā)的過程（高真空下不需要加熱也能氣化），可以通過長時間拉真空來氣化掉這部分液體從而達到高真空（等穩(wěn)定),如果長時間都達不到目標氣壓的話，就要考慮系統和羅茨泵了，你可以直接測一下極限真空（不接入其他系統），若完好則就是系統的密封性能了。

(1)水冷裝置，真空熱處理爐的爐殼、爐蓋、電熱元件導別處置(水冷電極)、中間真空隔熱門等部件，均在真空、受熱狀態(tài)下工作。在這種極為不利的條件下工作，必須保證各部件的結構不變形、不損壞，真空密封圈不過熱、不燒毀。因此，各部件應該根據不同的情況設置水冷裝置，以保證真空熱處理爐能夠正常運行并有足夠的使用壽命。

(2)采用低電壓大電流：在真空容器內，當真空空度為幾托一lxlo-1托的范圍內時，真空容器內的通電導體在較高的電壓下，會產生輝光放電現象。在真空熱處理爐內，嚴重的會產生弧光放電，燒毀電熱元件、隔熱層等，造成重大事故和損失。因此，真空熱處理爐的電熱元件的工作電壓，一般都不超過80一100伏。同時在電熱元件結構設計時要采取有效措施，如盡量避免有的部件，電極間的間距不能太小窄，以防止輝光放電或者弧光放電的發(fā)生。

真空爐是一種可以抽真空的爐型，按照外觀可分為箱式真空爐、管式真空爐、升降真空爐、臺車式真空爐等。按下面給大家詳細的介紹一下真空爐的結構、功能以及使用注意：

真空爐的結構：

真空爐一般由主機、爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空系統、供電系統、控溫系統和爐外運輸車等組成。密封爐殼用碳鋼或不銹鋼焊成，可拆卸部件的接合面用真空密封材料密封。為防止爐殼受熱后變形和密封材料受熱變質，爐殼一般用水冷或氣冷降溫。爐膛位于密封爐殼內。根據爐子用途,爐膛內部裝有不同類型的加熱元件，如電阻、感應線圈、電極和電子槍