鋼研納克SparkCCD7000

高分辨率 CCD 檢測器

像素數：3648 46 全行業(yè)較高

像素尺寸：8μm 全行業(yè)較小

精薄鍍膜，紫外波段檢出限更低，可做低含量 N

萬級超凈環(huán)境下打造較優(yōu)光學系統

帕邢 - 龍格結構羅蘭光學系統，無像差，分辨率均勻

高發(fā)光全息光柵，光柵焦距 500mm, 刻線為 2700 條 /mm，全行業(yè)較高

線分辨率 0.7407nm/mm

像素分辨率 0.005926nm

譜線范圍：130-800nm（可分析 N、Li、 Na、K 等元素）

智能控制系統，再啟動耗時行業(yè)較低

潮汐式沖洗方式，冷機（關機 12 小時）啟動只需 30min，熱機啟動時間 5min

智能判斷分析間隔時間，合理補充氣，降低氣消耗

60ml/min 超低待機流量，一瓶氣 24 小時待機 70 天

分片式曝光，痕量元素識別強度大幅提高，檢出限更低

一次激發(fā)，分片曝光，同時采集，同時回數

獨立控制不同 CCD 的積分曝光時間

提升痕量元素的強度，降低儀器的檢出限

隨波段調節(jié)積分時間，提升儀器的 穩(wěn)定性

現在有些品牌號稱能夠用火花直讀光譜儀(OES)直接分析灰口鑄鐵，不知道是否可信。畢竟幾十年的(OES)工作經驗，告訴我們，灰口鑄鐵必須白口化（也就是急冷使得片狀石墨的灰鐵變成游離碳化物，以滲碳體的白口鑄鐵），才能用光譜儀分析。

直讀光譜儀是用電弧（火花）的高溫使樣品中各種元素從固態(tài)直接氣化并被激發(fā)而射出各元素的特征波長，經光柵分光后，成為按波長排列的“光譜”，這些元素的特征光譜線通過出射狹縫，射入各自的檢測器，光信號變成電信號，經儀器的控制測量系統將電信號積分并進行模/數轉換，然后由計算機處理，并計算出各元素的百分含量。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求

直讀光譜分析時，一般都采用內標法。因內標法進行分析時常采用多條分析線和一條內標線組成，常用試料中的基體元素為內標元素。組成的線對要求均稱，就是當激發(fā)光源有波動時，兩條線對的譜線強度雖有變化，但強度比或相對強度能保持不變。

如R表示強度比即        

R=I1/I0

I1為分析線的強度，Io為內標線強度，表明I1和Io同時變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關系。

在光電直讀光譜分析時，有很多分析通道，要安裝許多內標通道有困難，因此采用一個內標線。但有人認為再要提高光電光譜分析的準確度還得采用不同的內標線，這還有待于光電轉換元件的小型化來解決。

光電法時，有時還用內標線來控制曝光量，稱為自動曝光，也就是樣品在曝光時，分析線和內標分別向各自積分電容充電，當內標線的積分電容器充電達到某一預定的電壓時，自動截止曝光。此時分析線的積分電容器充電達到的電壓即代表分析線的強度I，并且亦即代表分析線的強度比R(因為R=I1/Io，而此時Io保持常數)這個強度I或強度比R就由測光讀數所表示。

現在一般采用計時曝光法較為普遍。