拋光時(shí)，高速旋轉(zhuǎn)的拋光輪（圓周速度在20米/秒以上）壓向工件，使磨料對(duì)工件表面產(chǎn)生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達(dá)Ra0.63～0.01微米;當(dāng)采用非油脂性的消光拋光劑時(shí)，可對(duì)光亮表面消光以改善外觀。 大批量生產(chǎn)軸承鋼球時(shí)，常采用滾筒拋光的方法。粗拋時(shí)將大量鋼球、石灰和磨料放在傾斜的罐狀滾筒中，滾筒轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，使鋼球與磨料等在筒內(nèi)隨機(jī)地滾動(dòng)碰撞以達(dá)到去除表面凸鋒而減小表面粗糙度的目的，可去除0.01毫米左右的余量。

拋光三環(huán)節(jié)研磨、拋光、還原各環(huán)節(jié)具體含義及質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)：1、 研磨：通過(guò)表面預(yù)處理清除漆面上的污物，消除嚴(yán)重氧化、細(xì)微劃痕及表面缺陷，工藝大多采用水砂紙去除表面瑕疵，一般使用3M 1500-2500皇牌水砂紙。隨著人工成本的提高，水磨砂紙研磨效率不高，使用后砂紙痕較重的問題開始凸顯，一些主流站開始采用3M 金字塔砂紙，P1500和P3000砂紙，使用干磨機(jī)拋光半濕磨的方式進(jìn)行研磨，無(wú)砂紙痕的殘留，機(jī)械化操作，可極大的提高拋光效率。具體步驟如下：a, 缺陷去除。漆面噴灑少量水，使用P1500金字塔砂紙配合干磨機(jī)整體上下左右各一遍，漆面呈亞光狀態(tài)；打磨后，使用橡膠刮水板刮除表面的白沫，觀察漆面，找出突顯的缺陷，再在砂碟上噴灑少量水，去除缺陷。b, 漆面過(guò)細(xì)。使用干磨機(jī)配合P3000金字塔砂碟和干磨軟墊過(guò)細(xì)打磨過(guò)的漆面，在砂碟和漆面上噴灑一定量的水，以較快的移遮蔽保護(hù)動(dòng)速度，按上下左右順序各兩道打磨整個(gè)漆面。打磨后，使用橡膠刮水板刮除表面水和白沫。

原理：化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，能夠處理細(xì)管、帶有深孔及形狀復(fù)雜的零件，生產(chǎn)。化學(xué)拋光可作為電鍍預(yù)處理工序，也可在拋光后輔助以必要的防護(hù)措施直接使用。

化學(xué)拋光是一種將金相樣品浸入調(diào)配的化學(xué)拋光液中，借化學(xué)藥劑的溶解作用而得到的拋光表面的拋光方法?；瘜W(xué)拋光是常見的金相樣品拋光方法之一，這種方法操作簡(jiǎn)便，不需任何儀器設(shè)備，只需要選擇適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)拋光液和掌握的拋光規(guī)范，就能快速得到較理想的光潔而無(wú)變形層的表面。

基本原理：

金屬試樣表面各組成相的電化學(xué)電位不同，形成了許多微電勢(shì)，在化學(xué)溶液中會(huì)產(chǎn)生不均勻溶解。在溶解過(guò)程中試樣面表層會(huì)產(chǎn)生一層氧化膜，試樣表面凸出部分由于粘膜薄，金屬的溶解擴(kuò)展速度較慢，拋光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能達(dá)到十分理想的要求。在低和中等放大倍數(shù)下利用顯微鏡觀察時(shí)，這種小的起伏一般在物鏡垂直鑒別能力之內(nèi)，仍能觀察到十分清晰的組織

拋光加工的機(jī)理

拋光切削加工、塑性加工和化學(xué)作用的綜合過(guò)程。 微細(xì)磨粒進(jìn)行的是切削加工，摩擦引起高溫而產(chǎn)生擠擦工件表面層的是塑性加工，拋光劑的介質(zhì)在溫度和壓力作用下與金屬表面層發(fā)生的是化學(xué)作用。

拋光加工的種類

1、機(jī)械拋光：機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法

2、化學(xué)拋光：化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。

3、電解拋光：電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。

4、超聲波拋光 ：將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中，依靠超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表面磨削拋光。

5、流體拋光 ：流體拋光是依靠高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。