一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時分析:23層鍍層，24種元素   厚度檢出限:0.005um

工業(yè)X射線鍍層厚度分析儀以其快速、無損、現(xiàn)場測量等優(yōu)點(diǎn)，已在冶金、建材、地質(zhì)、環(huán)保、商檢、考古、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域得到迅速推廣和應(yīng)用。近幾年來X射線熒光儀已在工業(yè)鍍層及涂層厚度測量中應(yīng)用越來越廣泛。眾所周知，產(chǎn)品和金屬元件表面鍍層或防腐層厚度是與產(chǎn)品質(zhì)量與性能相關(guān)的重要指標(biāo)。實(shí)驗(yàn)表明使用同位素X射線熒光分析方法，測厚儀廠家，能夠滿足工業(yè)鍍層和涂層厚度的分析要求，并且具有無損、在線、簡便快速、可實(shí)現(xiàn)自動控制等特點(diǎn)。

一六儀器 專業(yè)測厚儀 多道脈沖分析采集，先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測厚儀

應(yīng)用于電子元器件，LED和照明，家用電器，通訊，汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

這些方法中前五種是有損檢測，測量手段繁瑣，速度慢，多適用于抽樣檢驗(yàn)。X射線和β射線法是無接觸無損測量，但裝置復(fù)雜昂貴，測量范圍較小。因有源，使用者必須遵守射線防護(hù)規(guī)范。X射線法可測極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。β射線法適合鍍層和底材原子序號大于3的鍍層測量。電容法僅在薄導(dǎo)電體的絕緣覆層測厚時采用。

隨著技術(shù)的日益進(jìn)步，特別是近年來引入微機(jī)技術(shù)后，采用磁性法和渦流法的測厚儀向微型、智能、多功能、、實(shí)用化的方向進(jìn)了一步。測量的分辨率已達(dá)0.1微米，精度可達(dá)到1%，有了大幅度的提高。它適用范圍廣，量程寬、操作簡便且價廉，是工業(yè)和科研使用廣泛的測厚儀器。采用無損方法既不破壞覆層也不破壞基材，檢測速度快，光譜測厚儀，能使大量的檢測工作經(jīng)濟(jì)地進(jìn)行。

一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時分析:23層鍍層，24種元素 厚度檢出限:0.005um

X射線熒光鍍層厚度分析儀基本原理

X射線熒光就是被分析樣品在X射線照射下發(fā)出的X射線，它包含了被分析樣品化學(xué)組成的信息，通過對X射線熒光的分析確定被測樣品中各組分含量的儀器就是X射線熒光分析儀。由原子物理學(xué)的知識，對每一種化學(xué)元素的原子來說，都有其特定的能級結(jié)構(gòu)，其核外電子都以其特有的能量在各自的固定軌道上運(yùn)行。內(nèi)層電子在足夠能量的X射線照射下脫離原子的束縛，成為自由電子，這時原子被激發(fā)了，寧波測厚儀，處于激發(fā)態(tài)。此時，其他的外層電子便會填補(bǔ)這一空位，即所謂的躍遷，同時以發(fā)出X射線的形式放出能量。

X射線熒光鍍層厚度分析儀基本原理

由于每一種元素的原子能級結(jié)構(gòu)都是特定的，它被激發(fā)后躍遷時放出的X射線的能量也是特定的，稱之為特征X射線。通過測定特征X射線的能量，便可以確定相應(yīng)元素的存在，而特征X射線的強(qiáng)弱（或者說X射線光子的多少）則代表該元素的含量。

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