化學(xué)鍍鎳工藝所產(chǎn)生的鍍層十分穩(wěn)定，沉積速度快等優(yōu)點，但廢水難以處理。傳統(tǒng)的重金屬離子去除方法幾乎沒有效果，氫氧化物沉淀法雖然可以在廢水中迅速剝離鎳金屬。但是氫氧化物沉淀法形成的氫氧化鎳，不能夠再被電鍍企業(yè)二次回收利用，且對化學(xué)鎳廢水中的鎳采用簡單的沉淀，無法確保鎳達到的廢水排放標(biāo)準(zhǔn)。

所以相關(guān)的科學(xué)家又發(fā)明了鐵氧體法，將正三價鐵離子和正二價鐵離子與金屬鎳離子相復(fù)合，通過磁性氧化物產(chǎn)生鐵氧體，鐵氧體是呈現(xiàn)為尖晶石狀體的固溶物，鎳離子依附于晶體之上，從而達到在廢水中去除鎳金屬的目的，鐵氧體法在實踐的過程中，需要把控廢水池內(nèi)的溫度和攪拌時間，以PH的數(shù)值為基礎(chǔ)。

拋光：利用柔性拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質(zhì)對工件表面進行的修飾加工。

針對不同的拋光過程:粗拋(基礎(chǔ)拋光過程)，中拋(精加工過程)和精拋(上光過程)，選用合適的拋光輪可以達到蕞佳拋光效果，同時提高拋光效率。

技術(shù)特點：提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，得到光滑表面或鏡面光澤，同時也可消除光澤。

蝕刻：通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

曝光法：工程根據(jù)圖形開出備料尺寸-材料準(zhǔn)備-材料清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK

模具沉鎳

電鍍鎳的緊固件一般用于既要防腐蝕性高,又要導(dǎo)電性好的地方。電鍍鎳層在空氣中的穩(wěn)定性很高,由于金屬鎳具有很強的鈍化能力,在表面能迅速生成一層極薄的鈍化膜,能抵抗大氣、堿和某些酸的腐蝕。電鍍鎳有優(yōu)良的拋光性能,經(jīng)拋光后其光澤可長期保持,且鎳鍍層的硬度較高可提高緊固件的耐磨性。

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