鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限：亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 長期穩(wěn)定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光  源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，功率連續(xù) 1 瓦可調 震蕩頻率：27.12MHz

輸出功率：700W-1600W 功率穩(wěn)定性：< 0.1%

儀器規(guī)格

尺寸：寬 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重  量：約 180kg

光學系統

分析譜線范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm

光室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024

單像素面積：24μm x 24μm

工作環(huán)境

實驗室濕度環(huán)境：相對濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.95%

排  風：不小于 400 立方米 / 小時

電  源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA

Plasma 2000 技術特點

1.  優(yōu)異的光學系統

2.  固態(tài)有效射頻發(fā)生器，體積更加小巧

3.  流程自動化，狀態(tài)監(jiān)控及自動保護

4.  科研級檢測器，極高的紫外量化效率

5.  強大分析譜線

6.  信息直觀豐富

7.  多窗口多方法

8.  編輯功能強大

9.  智能譜圖標定

10. 智能干擾矯正

想了解更多產品信息您可撥打公司熱線進行咨詢！鋼研納克竭誠為您服務！

鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

Plasma2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”支持下研發(fā)的二維全譜高分辨ICP光譜儀，是國產全譜ICP光譜儀革命性產品，曾斬獲中國儀器儀表行業(yè)協會“自主創(chuàng)新金獎”等一系列榮譽，在業(yè)界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業(yè)設計，優(yōu)異穩(wěn)定的測試性能源于納克近四十年ICP行業(yè)經驗。Plasma2000擁有

1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，徑向觀測，具有穩(wěn)健的檢測能力。

2、 有效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

3、 高速面陣CCD采集技術，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實現“全譜直讀”。

4、 功能強大的軟件系統，簡化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

可廣泛應用于冶金、地質、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。

鋼研納克擬負責起草ICP-AES國家標準

鋼研納克擬負責起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家標準

儀器信息網訊 2014年10月28日，國家標準委決定發(fā)布通知對2014年第二批擬立項國家標準項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標準。主管部門為中國機械工業(yè)聯合會，歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標準化技術會，起草單位為鋼研納克檢測技術有限公司，計劃完成時間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標準將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標志、包裝、運輸和貯存。

據介紹，制定該標準旨在提升我國ICP光譜儀的生產制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產提高ICP光譜儀生產企業(yè)準入門檻，形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產儀器同國外儀器的性能差距，提高國產ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項目起草單位鋼研納克檢測技術有限公司研發(fā)生產電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”成果。