放置時間變化：水真空光油上光油屬不結(jié)膜物，像食用油一樣，長時間放置表面不會結(jié)皮。將少量上光油置于玻璃片表面，在蔽光處放置24h后觀察有無結(jié)皮現(xiàn)象。不結(jié)皮說明是真空電鍍uv光油，否則是假的水性UV底油油。測溶劑含量：將上光油置入帶刻度器皿內(nèi)（直徑小于50mm），放置紙12h，觀察揮發(fā)了多少。一般看不到表面位置的下降。若明顯觀察出下降，說明上光油內(nèi)溶劑過多，是原有光油添加過稀釋劑的劣質(zhì)產(chǎn)品。

真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運

行，從而增大電子撞擊亞氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

在近幾十年的發(fā)展中，大家逐漸采用長久磁鐵，很少用線圈磁鐵。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。

在顯示器件方面，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導電膜、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。

在元件方面，在真空中蒸發(fā)鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器，蒸發(fā)硒可以得到靜電復印機用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。

二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛合磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，現(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍錯等等。