真空法氦質譜檢漏原理

真空法氦質譜檢漏原理：

采用真空法檢漏時，需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產品內部密封室抽真空，采用氦罩或噴吹的方法在被檢產品外表面施氦氣，當被檢產品表面有漏孔時，氦氣就會通過漏孔進入被檢產品內部，再進入氦質譜檢漏儀，從而實現被檢產品泄漏量測量。按照施漏氣體方法的不同，又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產品外表面噴吹氦氣，可以實現漏孔的定位； 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產品全部罩起來，在罩內充滿一定濃度的氦氣，可以實現被檢產品總漏率的測量。

真空法檢漏有何優(yōu)點：真空法的優(yōu)點是檢測靈敏度高，可以定位漏孔，能實現大容器或復雜結構產品的檢漏。

真空法檢漏缺點：真空法的缺點是只能實現一個大氣壓差的漏率檢測，不能真實反映帶壓被檢產品的真實泄漏狀態(tài)。

用途：真空法的檢測主要應用于真空密封性能要求，氦檢漏設備生產廠家，但不帶壓工作的產品，如空間活動部件、液氫槽車、環(huán)境模擬設備等。

氦質譜檢漏原理

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氦質譜檢漏技術是以無色、無味的惰性氣體氦氣為示蹤介質、以磁質譜分析儀為檢測儀器，用于檢漏的一種檢測技術，氦檢漏設備，它的檢漏靈敏度可達10-14～10-15Pam3/s，可以準確確定漏孔位置和漏率。氦質譜檢漏儀主要由質譜室、真空系統(tǒng)組件和電子學控制元件三大部分組成。質譜室接在分子泵的高真空端，入口接在分子泵和機械泵之間，氦檢漏設備價格，利用分子泵對不同氣體具有不同壓縮比的特點，氦氣逆著分子泵的抽氣方向進入質譜室。檢漏儀在質譜室中將氣體電離，這些離子在加速電場的作用下進入磁場，在洛倫茲力作用下發(fā)生偏轉，由于不同荷質比的離子具有不同的電磁學特性，偏轉半徑各不相同，在擋板的作用下，氦檢漏設備保養(yǎng)，氦檢漏儀的收集板只允許帶正電的氦離子被接收到，單位時間到達收集板的氦離子對應于一個電流信號，這個電流信號正比于進入到達收集板氦離子的數量，電流信號經過放大后顯示在質譜儀的顯示面板上，其大小反映了泄漏點的漏率，通過泄漏率大小來確定該位置泄漏程度的大小。

氦質譜檢漏儀的示蹤氣體選用氦氣，是因為氦氣具有以下優(yōu)良特性：

①氦氣在空氣中的含量少，體積含量為5.24×10-6，如果氦氣在環(huán)境中的含量超過標準，可以比較容易地探測到極微量的氦氣；

②氦分子小、質量輕、易擴散、易穿越漏孔、易于檢測也易于清除；

③氦離子荷質比小，易于進行質譜分析；

④氦氣是惰性氣體，化學性質穩(wěn)定，不會腐蝕和損傷任何設備；

⑤氦氣無毒，不凝結，極難容于水。

氦檢漏設備簡介

中文名:真空檢漏

拼音:zhenkong jianlou

英文名:vacuum leak detection

真空系統(tǒng)、容器或器件的器壁因材料本身缺陷或焊縫、機械連接處存在孔洞、裂紋或間隙等缺陷，外部大氣通過這些缺陷進入系統(tǒng)內部，致使系統(tǒng)、容器或器件達不到預期的真空度，這種現象稱為漏氣。造成漏氣的缺陷稱為漏孔。漏孔尺寸微小、形狀復雜，無法用幾何尺寸表示，因此在真空技術中用漏率來表示漏孔的大小。漏率是指單位時間內漏入系統(tǒng)的氣體量，其單位為帕·米3/秒(Pa·m3/sec)或托·升/秒(Torr·L/sec)。

1Pa·m3/sec=7.5(Torr·L/sec)

真空檢漏技術就是用適當的方法判斷真空系統(tǒng)、容器或器件是否漏氣、確定漏孔位置及漏率大小的一門技術，相應的儀器稱為檢漏儀。在真空系統(tǒng)、容器、器件制造過程中借助真空檢漏技術確定它們的真空氣密性、探查漏孔的位置，以便采取措施將漏孔封閉從而使系統(tǒng)、容器、器件中的真空狀態(tài)得以維持。

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