公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

如需要烤版，烤版時(shí)要注意：①首先要選好烤版膠，烤版膠不能太臟。如用固體桃膠配制，一定要用熱水溶膠，膠要徹底溶開(kāi)、過(guò)濾再用。②把適量的烤版膠涂在版面上，用海綿將版面涂擦均勻。③烤版膠不能用干布擦拭。④版材在烘版箱中烘烤，圖像區(qū)域會(huì)均勻變色。不同的PS版，烘烤時(shí)間、溫度及終顏色會(huì)不一致，所以需通過(guò)試驗(yàn)確定烤版條件。光刻工藝是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫(huà)器件結(jié)構(gòu)，再通過(guò)刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)換到襯底上。

制版（platemaking）是將原稿成印版的統(tǒng)稱。有將鉛活字排成活字版，以及用活字版打成紙型現(xiàn)澆鑄成凸版和將圖像經(jīng)照像或電子分色獲得底片，用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影響印版質(zhì)量的因素，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時(shí)間以及顯影液的循環(huán)攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。其圖形結(jié)構(gòu)可通過(guò)制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫(xiě)式光刻設(shè)備，如激光直寫(xiě)光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。

PS版的顯影時(shí)間主要由PS版的種類、曝光時(shí)間及顯影液的濃度、顯影溫度等條件來(lái)確定。當(dāng)上述條件確定制版機(jī)后，PS版的顯影程度與顯影時(shí)間成正比關(guān)系，即顯影時(shí)間越長(zhǎng)，顯影越徹底。但顯影時(shí)間過(guò)長(zhǎng)會(huì)產(chǎn)生網(wǎng)點(diǎn)縮小等現(xiàn)象。

接觸光刻技術(shù)中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實(shí)際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；另一方面，縮微技術(shù)中使用的掩模具有表面特征圖案的實(shí)際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)投影模式曝光i光明。隨著沖版量的不斷增加和空氣中的CO2不斷溶入，顯影液中的OH-濃度會(huì)下降，pH值將越來(lái)越低，顯影時(shí)間應(yīng)慢慢變長(zhǎng)，至后在正常曝光條件下PS版無(wú)法顯影，這就是顯影液疲勞的現(xiàn)象。 

石英掩膜版

使用石英玻璃為基板材料，光學(xué)透過(guò)率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整和耐磨，使用壽命長(zhǎng)，主要用于掩膜版

蘇達(dá)掩膜版

使用蘇打玻璃作為基板材料，光學(xué)透過(guò)率較高，熱膨脹率相對(duì)高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對(duì)弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版