光刻技術，重頭戲是物理技術，光刻的前道工序如涂膠，后道如顯影，都是化學技術，對機器要求不算高。唯獨曝光工序才是難的，其中難又在于光刻機，也就是一只巨型單反相機，其光源和鏡頭，還有控制技術估計已經是人類的極限了，巨難做?？涛g說得形象點就是沿著曝光圖形刻槽，化學成分比較大，并不算十分關鍵的設備，我朝的刻蝕機技術還是很不錯的。

激光蝕刻機

相對于傳統(tǒng)的濕法蝕刻，激光蝕刻不直接接觸材料表面、CAD圖紙直寫，無須掩模，因此可靠性更強，良率更高，一致性更好，蝕刻線寬大小可調，圖形任意，該技術已經廣泛應用于觸摸屏，LCD，PDP，電子書，OLED等工業(yè)生產。而在其他應用領域，尤其是一些更高要求的多層次材料的選擇性蝕刻，是其他傳統(tǒng)方法無法做到的。

蝕刻機、金屬蝕刻機、金屬腐蝕機應用范圍:

適用于、金屬標牌，薄板金屬電子零部件（如手機金屬按鍵面板、金屬網片、精密過濾網等）加工制造。蝕刻精度：根據(jù)制版而定 制版0.2微米

蝕刻機（金屬蝕刻機、腐蝕機）特點：

1、采用傳動裝置，霧化噴淋，結構合理；加工尺寸長度不限制，速度快、精度高；

2、使用方便：有效地設計噴淋與被蝕刻金屬板的有效面積和蝕刻均勻程度；蝕刻效果、速度和操作者的環(huán)境及方便程度等方面都有改善；藥液使用充分，大大降低生產成本；

3、蝕刻速度在傳統(tǒng)蝕刻法上大大提高：經反復實驗噴射壓力在1-2 kg/cm2的情況下被蝕刻工件上所殘留的蝕刻圬漬能被有效清處掉

4、可根據(jù)客戶要求，有針對的定制非標尺寸和性能：如搖擺式、窗式、抽拉式、轉盤式、曲面式、傾斜面式、冷卻（空調冷卻或加水循環(huán)冷卻）等

5、可組配蝕刻線：顯影機、蝕刻機、退膜機

6、批量標牌制作流水作業(yè)：配備自動烘干烤箱，自動雙面顯影機，自動上色機，制版機，電鍍機。