一個(gè)噴嘴的處理寬度為約30-12 mm。當(dāng)然，每次使用時(shí)都要提前對(duì)清洗寬度進(jìn)行檢測(cè)（例如，接觸角測(cè)量）。

　　等離子表面處理設(shè)備處理速度可達(dá)到多少？

　　較之于活化工藝，清洗速度可達(dá)每秒幾 cm。有效清洗需對(duì)表面進(jìn)行升溫，只有借助較低的速度才能達(dá)到這一目的。

　　射流溫度有多高？

　　等離子射流平均溫度為約 200 – 250 °C。 如果距離和速度設(shè)定是正確的，則表面溫度可達(dá)到約 70 – 80 °C。故此，該項(xiàng)技術(shù)可以用于所有標(biāo)準(zhǔn)材料（金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體）。

等離子體系統(tǒng)是典型的后端封裝步驟之前的晶圓加工以及晶圓扇出，晶圓級(jí)封裝，3D封裝，倒裝芯片和傳統(tǒng)封裝的理想選擇。腔室設(shè)計(jì)和控制架構(gòu)可實(shí)現(xiàn)短時(shí)間的等離子體循環(huán)時(shí)間，同時(shí)具有非常低的開(kāi)銷(xiāo)，確保您的應(yīng)用的吞吐量化，并將所有權(quán)成本降至。等離子清洗機(jī)支持從75mm到300mm的圓形或方形晶片/基板尺寸的自動(dòng)化處理和處理。此外，根據(jù)晶片厚度，有或沒(méi)有載體的薄晶片處理是可能的。等離子體室設(shè)計(jì)提供的蝕刻均勻性和工藝重復(fù)性。初級(jí)等離子體應(yīng)用包括各種蝕刻，灰化和除塵步驟。其他等離子體工藝包括污染去除，表面粗糙化，增加的潤(rùn)濕性，以及增強(qiáng)粘結(jié)和粘附強(qiáng)度，光致抗蝕劑/聚合物剝離，電介質(zhì)蝕刻，晶片凸起，有機(jī)污染物去除和晶片脫模。晶圓清洗 - 等離子體系統(tǒng)在晶圓碰撞前清除污染物，清除有機(jī)污染物，除去氟和其他鹵素污染物，并除去金屬和金屬氧化物。等離子體還改善了旋涂膜的附著力并清洗了金屬接合墊。

 PCB的等離子體系統(tǒng)除硅片，用于再分布，剝離/蝕刻光刻膠的圖形電介質(zhì)層，增強(qiáng)晶片應(yīng)用材料的附著力，去除多余的晶片施加的模具/環(huán)氧樹(shù)脂，增強(qiáng)金焊料凸塊的粘附力，使晶片降低破損，提高旋涂膜附著力和清潔鋁鍵合墊。

    為滿足客戶清洗要求：處理效果穩(wěn)定性好，如下圖，我們?cè)趯?duì)FPC線路板進(jìn)行處理前，接觸角度為77度，經(jīng)過(guò)等離子清洗處理之后，接觸角度為19度。通過(guò)等離子表面處理顯著達(dá)到由疏水變?yōu)橛H水的效果。

（1）常規(guī)產(chǎn)品現(xiàn)貨供應(yīng)：發(fā)貨準(zhǔn)時(shí)，真空等離子清洗機(jī)非標(biāo)定制腔體生產(chǎn)周期快，影響您的生產(chǎn)周期。

（2）軟件功能齊全：

（3）廠家的技術(shù)**程度高：作為**化的等離子清洗機(jī)生產(chǎn)廠家，達(dá)因特不但提供等離子清洗設(shè)備，還提供可以檢測(cè)清洗效果的接觸角測(cè)量?jī)x，完善的研發(fā)生產(chǎn)儀器設(shè)備，以及**的售前、售中、售后服務(wù)團(tuán)隊(duì)，我們是**的表面性能處理及檢測(cè)解決方案。

等離子表面處理批發(fā)價(jià)-晟鼎精密設(shè)備齊全由東莞市晟鼎精密儀器有限公司提供。東莞市晟鼎精密儀器有限公司是一家從事“接觸角測(cè)定儀,水滴角測(cè)試儀,等離子清洗機(jī),干式超聲波除塵”的公司。自成立以來(lái)，我們堅(jiān)持以“誠(chéng)信為本，穩(wěn)健經(jīng)營(yíng)”的方針，勇于參與市場(chǎng)的良性競(jìng)爭(zhēng)，使“晟鼎,SINDIN,達(dá)因特”品牌擁有良好口碑。我們堅(jiān)持“服務(wù)至上，用戶至上”的原則，使晟鼎精密在專(zhuān)用儀器儀表中贏得了客戶的信任，樹(shù)立了良好的企業(yè)形象。 特別說(shuō)明：本信息的圖片和資料僅供參考，歡迎聯(lián)系我們索取準(zhǔn)確的資料，謝謝！