DZS800型電子束鍍膜設備

主要用途：　　

用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，批量生產(chǎn)型。

系統(tǒng)組成:　　

系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、計算機系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成?！　?

技術指標：　　

極限真空度：≤6.7×10 Pa　　恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：真空室1200x9000 x800mm采用U型箱體前開門，后置抽氣系統(tǒng)　　

e型電子槍：陽極電壓：10kv(2套)　　坩堝：水冷式坩堝，24穴設計，每個容量11ml　　

功率：0-10KW可調　　電阻蒸發(fā)源(可選)　　

基片尺寸：可放置4″基片一次更換20個樣品　　

樣品臺：基片可連續(xù)回轉，轉速5-60轉/分基片與蒸發(fā)源之間距離350mm加熱溫度 400°C±1°C　　

氣路系統(tǒng)：質量流量控制器1路　　

石英晶振膜厚控制儀：監(jiān)測膜厚顯示范圍：0-99μ9999?

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電子束原理介紹

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售電子束產(chǎn)品，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

電子在電場中會受力而得到加速、提高能量，產(chǎn)生電子束。顯像管中的電子槍對應于增速器的電子槍或離子源，顯像管中加速電子用的高壓電極對應于增速器中的高壓加速電極及加速腔。電子束焊原理一臺電子增速器，注入的電子能量為20GeV（1GeV=109 eV，也就是10億電子伏特），相應的電子速度為0.99999999979倍光速。電子經(jīng)增速器加速后，能量可達到100GeV，電子速度達到0.999999999987倍的光速。這說明，電子在這臺增速器里速度幾乎沒有增加，而能量增加了4倍。

電子束蒸發(fā)鍍膜機是由哪些部分組成的？

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設備組成：

設備由薄膜沉積室、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、水冷卻循環(huán)系統(tǒng)、膜厚監(jiān)測及控制系統(tǒng)、安全保護系統(tǒng)組成。

作用：電子束蒸鍍常用來制備Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物膜，SiO2、ZrO2膜，抗腐蝕和耐高溫氧化膜。