氦質譜檢漏儀

氦質譜檢漏儀（Helium Mass SpectrometerLeakDetector）為氣體工業(yè)名詞術語，用氦氣或者氫氣作示漏氣體，以氣體分析儀檢測氦氣而進行檢漏的質譜儀。常規(guī)系統(tǒng)多用于早期的氦質譜檢漏儀，該種檢漏儀的被檢件與高真空部分直接相通，由被檢件泄入的氮氣首先到達質譜管被檢到，因而具有較高的靈敏度，但是會對質譜管有污染。氦氣的本底噪聲低，分子量及粘滯系數(shù)小，因而易通過漏孔并易擴散；另外，氦系惰性氣體，不腐蝕設備，故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀（調整到僅對氦氣反應的工作狀態(tài)）的被檢容器上，若容器有漏孔，則分析儀即有所反應，從而可知漏孔所在及漏氣量大小。

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氦質譜檢漏儀的應用拓展三

（1）電子行業(yè)

微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。

（2）真空行業(yè)，儀器、儀表行業(yè)

管道、接頭、閥門、波紋管、各種真空泵、各類排氣機組、電鏡、質譜儀、電子束離子速暴光機、激光軸分離器、高能加1速器、加1速器、輻照加1速器、鍍膜機、薄膜真空計。

（3）核工業(yè)

鈾分離裝置、存儲裝置、核發(fā)電裝置。

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氦質譜檢漏儀的注意事項

檢漏儀的響應時間會影響檢漏工作的速度，正常運行的儀器響應時間不大于3s。筆者實測時，在漏點處噴射氦氣5～10s后，檢漏儀就發(fā)生響應，對于如此龐大的真空系統(tǒng)，其反應是相當?shù)撵`敏。

檢漏時噴槍在漏孔處停留的時間應為儀器響應時間的3倍，該時間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時間，即為兩次噴氦的較小間隔時間，當然真空系統(tǒng)越龐大，該間隔時間也越長。氦氣在氦質譜檢漏儀檢漏中作為示蹤氣體使用，純度要求不高，一般選用工業(yè)用氦，即氦含量≥99%，露1點≤43℃。筆者根據(jù)實測經(jīng)驗，兩次噴氦的較小間隔時間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內檢漏儀還沒有反應,則可進行第二次噴氦。

清除時間在理論上與響應時間相同，但由于儀器零件對氦的吸附和脫附作用的影響,清除時間一般要更長些。今天和大家分享的是氦質譜檢漏儀的資料，如果您想了解更多您可撥打圖片上的電話進行咨詢，科儀創(chuàng)新竭誠為您服務。筆者測算，在測試到數(shù)量級為10-9P a ?m3/s的微漏漏點時，清除時間約須1分鐘；在測試到數(shù)量級為10-8P a ? m3/s的中漏漏點時，清除時間約須2分鐘；在測試到數(shù)量級為10-7Pa?m3/s的大漏漏點時，清除時間在3分鐘左右。

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氦質譜檢漏儀的校準方法

氦質譜檢漏儀廣泛應用于制冷行業(yè)、核工業(yè)、電子行業(yè)、真空行業(yè)、電力行業(yè)、航空航天等行業(yè)。根據(jù)其工作原理和技術性能指標，通過實驗，總結通過氦質譜檢漏儀對其漏率校準的方法。

氦質譜檢漏儀原理:

氦質譜檢漏儀是一種以氦氣作為示漏氣體專門用于檢漏的質譜分析儀器。其基本工作原理是采集被檢件中的氣體樣品并將其電離，根據(jù)不

氦質譜檢漏儀主要由質譜室、真空系統(tǒng)和電氣部分等組成。

氦質譜檢漏儀的內部一般有標準漏孔，可將標準漏孔拆卸進行校準，如果不能單獨校準標準漏孔，就可考慮直接通過氦質譜檢漏儀進行漏率部分的校準，本文主要討論這種情況下氦漏率的校準方法。