拋光粉通常由氧化、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等組份組成，不同的材料的硬度不同，在水中的化學(xué)性質(zhì)也不同，因此使用場(chǎng)合各不相同。氧化鋁和氧化鉻的莫氏硬度為9,氧化和氧化鋯為7,氧化鐵更低。

　　基稀土拋光粉是較為重要的稀土產(chǎn)品之一。因其具有切削能力強(qiáng)，拋光時(shí)間短、拋光精度高、操作環(huán)境清潔等優(yōu)點(diǎn)，故比其他拋光粉（如Fe2O3）的使用效果佳，而被人們稱為'拋光粉'.目前該產(chǎn)品在我國(guó)發(fā)展較快，應(yīng)用日廣，產(chǎn)量猛，發(fā)展前景看好。

以上原料中除種外，第2,3,4種均含輕稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2為主，w（CeO2）為48%~50%.我國(guó)具有豐富的資源，據(jù)測(cè)算，其工業(yè)儲(chǔ)量約為1800萬噸（以CeO2計(jì)），這為今后我國(guó)持續(xù)發(fā)展稀土拋光粉奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，也是我國(guó)獨(dú)有的一大優(yōu)勢(shì)，并可促進(jìn)我國(guó)稀土工業(yè)繼續(xù)高速發(fā)展。

　　1.4主要生產(chǎn)工藝及設(shè)備

　　1.4.1高系稀土拋光粉的生產(chǎn)

　　以稀土混合物分離后的氧化為原料，以物理化學(xué)方法加工成硬度大，粒度均勻、細(xì)小，呈面心立方晶體的粉末產(chǎn)品。其主要工藝過程為：原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級(jí)→過濾→烘干→系稀土拋光粉產(chǎn)品。

　　主要指標(biāo)：產(chǎn)品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經(jīng)1μm~6μm（或粒度為200目~300目），晶形完好。該產(chǎn)品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉（）。

　　1.4.2中系稀土拋光粉的制備

　　用混合稀土氫氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）為原料，以化學(xué)方法預(yù)處理得稀土鹽溶液，加入中間體（沉淀劑）使轉(zhuǎn)化成w（CeO2）=80%~85%的中級(jí)系稀土拋光粉產(chǎn)品。其主要工藝過程為：

　　原料→氧化→優(yōu)溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細(xì)磨篩分→中級(jí)系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備：氧化槽，優(yōu)溶槽，酸溶槽，沉淀槽，過濾機(jī)，煅燒爐，細(xì)磨篩分機(jī)及包裝機(jī)。

在稀土拋光粉的消費(fèi)中，日本是消費(fèi)者，每年約生產(chǎn)3550噸~4000噸拋光粉，產(chǎn)值35億~40億日元，還從法國(guó)、美國(guó)和中國(guó)進(jìn)口部分拋光粉。其中拋光粉消費(fèi)市場(chǎng)是彩電陰極射線管。二十世紀(jì)90年代中期，日本陰極射線管的生產(chǎn)轉(zhuǎn)向海外，而平面顯示產(chǎn)品產(chǎn)量迅速增加，對(duì)基拋光粉的需求量也迅速增加。估計(jì)日本在液晶顯示用平面顯示器生產(chǎn)上消費(fèi)的拋光粉約占其市場(chǎng)的50%.90年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備向海外轉(zhuǎn)移，如：日本清美化學(xué)從1989年開始在海外生產(chǎn)陰極射線管用基拋光粉。