鍍硬鉻廠家介紹鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的來源。實踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變化。例如，當溫度在45～50℃，Dk=10A／dm2時，鉻酐濃度在50～500g／L范圍內(nèi)變化，甚至高達800g／L，均可獲得光亮鍍鉻層。一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為150～400g／L之間。鉻酐的濃度對鍍液的電導率起決定性作用，鍍液溫度升高，電導率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動。因此，單就電導率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時，由于隨工件帶出損失嚴重，不僅造成材料的浪費，更主要的是會造成嚴重的環(huán)境污染。而低濃度鍍液對雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過高或過低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，蕞主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般控制Cr03：SO42-=(80～100)：1，蕞佳值為100：1。當SO42-含量過高時，對膠體膜的溶解作用強，基體露出的面積大，真實電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻、發(fā)花，特別是工件凹處還可能露出基體金屬。當SO42-含量過低時，陰極表面只有很少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地區(qū)放電長大，所以，鍍層發(fā)灰粗糙，光澤性差。

化學鍍包括鍍鎳、鍍銅、鍍金、鍍錫等很多鍍種，但應(yīng)用范圍相當廣的還是化學鍍鎳。由于化學鍍鎳層具有很好的均勻性、硬度、耐磨和耐蝕性等綜合物理化學性能，該項技術(shù)已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用，幾乎難以找到一個工業(yè)不采用化學鍍鎳技術(shù)。

電鍍鎳的特點、性能、用途：

電鍍鎳層在空氣中的穩(wěn)定性很高，由于金屬鎳具有很強的鈍化能力，在表面能迅速生成一層極薄的鈍化膜，能抵抗大氣、堿和某些酸的腐蝕。

光亮鎳

鍍光亮鎳有很多優(yōu)點﹐不僅可以省去繁重的拋光工序﹐改善操作條件﹐節(jié)約電鍍和拋光材料﹐還能提高鍍層的硬度﹐便于實現(xiàn)自動化生產(chǎn)﹐但是光亮鍍鎳層中含硫﹐內(nèi)應(yīng)力和脆性較大﹐耐蝕性不如鍍暗鎳層﹐為了克服這些缺點﹐可采用多層鍍鎳工藝﹐使鍍層的機械性能和耐蝕性得到顯著的改善。

鍍鉻是泛指電鍍鉻

鍍鉻有兩的，一是zhidao裝飾鉻，一是硬鉻。

鍍硬鉻是比較好的一增加表面硬度的方法，但是它的優(yōu)缺點很多，所以好多情況下都沒采用。

優(yōu)點一，表面光潔度好，優(yōu)點二，不會生銹，一點銹斑都不會有；三，鍍的過程中原零件變形小。四，如果零件尺寸不到位，可以通過加幾絲鉻來達到尺寸（如12樓所說的修補，當然了，這是優(yōu)點，也是個缺點，所以要鍍鉻的零回件都要放余量了）。優(yōu)點五，表面比較美觀。等等