真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富?？傮w來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。

真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源，弧放電離子源，kaufman離子源，射頻離子源，霍爾離子源，冷陰極離子源，電子回旋離子源，陽極層離子源，感應(yīng)耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。

真空鍍膜是在真空技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新技術(shù)，它選用物理學(xué)或有機(jī)化學(xué)方式，消化吸收離子束、分子結(jié)構(gòu)束、電子束、等離子技術(shù)束、頻射和磁控等一系列新技術(shù)，為科研和具體生產(chǎn)制造出示塑料薄膜制取。簡單點(diǎn)來說，在真空中揮發(fā)或磁控濺射金屬、鋁合金或化學(xué)物質(zhì)以干固并堆積在涂敷物件(稱之為板材、板材或底材)上的方式稱之為真空涂敷。真空鍍膜技術(shù)性一般分成兩大類，即物理學(xué)液相堆積(PVD)技術(shù)性和有機(jī)化學(xué)液相堆積(有機(jī)化學(xué)液相堆積)技術(shù)性。

  真空鍍膜隨著PVD鍍膜技術(shù)應(yīng)用的迅速推廣，吸引了國內(nèi)外專家們和相關(guān)企業(yè)積極研發(fā)，至今無論是PVD沉積技術(shù)、PVD的制備工藝，還是PVD設(shè)備配套裝備與部件，都有了長足的進(jìn)步。