真空鍍膜機的厚度均勻性主要取決于

1.基片材料與靶材的晶格匹配度

2.基片表面溫度

3.蒸發(fā)功率、蒸發(fā)率

4.真空度

5.涂層時間和厚度。

成分均勻性：蒸發(fā)涂層的成分均勻性不易保證?？烧{(diào)節(jié)的具體因素同上。但由于原理上的限制，非單組分涂層的蒸發(fā)涂層組分均勻性較差。

晶向均勻性：1、晶格匹配度  2、基片溫度  3、蒸發(fā)速率。

PVD是物理氣相沉積技術(shù)的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，常見的PVD沉積技術(shù)有：蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護性鍍層,但主要以添加防護性鍍層(金屬鍍層、有機物鍍層和復合鍍層)為主。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量，這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。防護性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。添加鍍層的方法有電鍍、化學鍍、物理氣相沉積等。

真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項新發(fā)展。防護性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。真空電鍍當高溫蒸發(fā)源通電加熱后，真空電鍍促使待鍍材料—蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。真空電鍍蒸發(fā)料粒子獲得一定動能，真空電鍍則沿著視線方向徐徐上升，后真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝形成的鍍層，真空電鍍與零件外表既無牢固的化學結(jié)合。汽車配件納米鍍膜設備

裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種，它們主要起提高膜層的結(jié)合力，降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度，保護金屬膜層的作用。