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發(fā)布時(shí)間:2021-05-04 07:29  

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電子束蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)應(yīng)用及特點(diǎn)


真空鍍膜機(jī)已經(jīng)廣泛運(yùn)用到我們的生活中,以前物件鍍上一層一層的膜是為了延長(zhǎng)壽命,防止腐蝕。然而隨著人民的生活質(zhì)量不斷的提升,對(duì)于物件外表的膜層不僅僅只是停留在延長(zhǎng)使用壽命上,同時(shí)更多關(guān)注物件的外觀是否絢麗美觀。真空鍍膜機(jī)在日常生活中運(yùn)用無(wú)處不在,使用的行業(yè)不一樣,鍍的產(chǎn)品不一樣,鍍膜機(jī)的型號(hào)是不相同的。今天至成真空小編為大家介紹一下電子束蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)應(yīng)用及特點(diǎn)。

首先簡(jiǎn)單為大家介紹一下蒸發(fā)系列卷繞真空鍍膜機(jī),它主要用于在塑料、布、紙、金屬箔等帶狀材料表面真空蒸鍍金屬膜。產(chǎn)品廣泛用于包裝、印刷、防偽、紡織、電子工業(yè)等領(lǐng)域。本系列設(shè)備具有運(yùn)行平穩(wěn)、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產(chǎn)周期短、能耗低、操作維護(hù)方便、性能穩(wěn)定等特點(diǎn)


電子束蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)真空鍍膜是將固體材料置于真空室內(nèi),在真空條件下,將固體材料加熱蒸發(fā),蒸發(fā)出來(lái)的原子或分子能自由地彌布到容器的器壁上。當(dāng)把一些加工好的基板材料放在其中時(shí),蒸發(fā)出來(lái)的原子或分子就會(huì)吸附在基板上逐漸形成一層薄膜。真空鍍膜有兩種方法,一是蒸發(fā),一是濺射。在真空中把制作薄膜的材料加熱蒸發(fā),使其淀積在適當(dāng)?shù)谋砻嫔稀?

那么電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)有哪些呢?

(1)卷饒系統(tǒng)采用支流或交流變頻調(diào)速,具有運(yùn)行平穩(wěn)、速度高、對(duì)原卷材不劃傷、不折皺,收卷端面征集等特點(diǎn);

(2)張力控制采用進(jìn)口數(shù)字張力控制系統(tǒng),具有張力、線(xiàn)速度恒定,動(dòng)作快速的特點(diǎn);

(3)各組送絲由微機(jī)電機(jī)獨(dú)立控制,可總調(diào)或單獨(dú)調(diào)速,并有速度顯示;

(4)真空系統(tǒng)配置精良,抽氣速度快,采用PLC控制;

(5)配備大功率電源,鍍膜,膜層均勻性好。



雙色真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點(diǎn)


很多人對(duì)真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)的了解不是特別全,也不知道具體是應(yīng)用到哪些行業(yè),以及它在實(shí)際運(yùn)用過(guò)程有哪些優(yōu)缺點(diǎn)?至成真空小編現(xiàn)在詳細(xì)和大家介紹一下:

真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)其應(yīng)用范圍是:

1)碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料;

2)金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)其優(yōu)點(diǎn)是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比,雙色PVD工藝更為復(fù)雜,流程更為繁雜,生產(chǎn)難度高,但外觀效果,兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實(shí)現(xiàn)雙色效果,采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實(shí)現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來(lái)的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色,表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右(而PVD后的表面硬度為HV600以上)。



專(zhuān)業(yè)磁控濺射真空鍍膜機(jī)設(shè)備用途:


專(zhuān)業(yè)磁控濺射真空鍍膜機(jī)設(shè)備用途:主要用于太陽(yáng)能電池鈣鈦礦、OLED和PLED、半導(dǎo)體制備等實(shí)驗(yàn)研究與應(yīng)用。磁控濺射包括很多種類(lèi)。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。專(zhuān)業(yè)磁控濺射生產(chǎn)但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊Ar氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源鍍膜均勻,非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜,非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場(chǎng)位形分布不同,大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。專(zhuān)業(yè)磁控濺射生產(chǎn)平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等,兩極磁力線(xiàn)閉合于靶面,很好地將電子/等離子體約束在靶面附近,增加碰撞幾率,提高了離化效率,因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電。


真空電弧離子鍍膜技術(shù)


真空電弧離子鍍膜技術(shù)不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進(jìn)行鍍膜;可以鍍金屬膜,氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜,還可以鍍氮化鈦摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應(yīng)用于工具、模具的超硬涂層,汽車(chē)輪轂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛(wèi)浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領(lǐng)域。真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)及設(shè)備在當(dāng)今和未來(lái)都擁有十分廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域和發(fā)展前景,特別是在制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜;在數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀(jì)錄儲(chǔ)存膜;在能充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜;在計(jì)算機(jī)顯示用的感光膜;在TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透膜;在建筑、汽車(chē)行業(yè)上應(yīng)用的玻璃鍍膜和裝飾膜;在包裝領(lǐng)域用防護(hù)膜、阻隔膜;在裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;在工、模具上應(yīng)用的耐磨超硬膜:在納米材料研究方面的各種功能性薄膜等等都是真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備在廣泛應(yīng)的基礎(chǔ)上得到的不斷發(fā)展的領(lǐng)域。