公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

掩膜是一種圖像濾鏡的模板，實(shí)用掩膜經(jīng)常處理的是遙感圖像。當(dāng)提取道路或者河流，或者房屋時(shí)，通過一個(gè)n*n的矩陣來對(duì)圖像進(jìn)行像素過濾，然后將我們需要的地物或者標(biāo)志突出顯示出來。這個(gè)矩陣就是一種掩膜。

光掩膜一般也稱光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。光掩膜主要由兩部分組成：基板和不透光材料。

作為半導(dǎo)體、液晶顯示器制造過程中轉(zhuǎn)移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導(dǎo)體制程中非常關(guān)鍵的一環(huán)。

掩膜（MASK）就是指單片機(jī)設(shè)計(jì)掩膜就是指程序流程統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)早已制成光刻版，在單片機(jī)設(shè)計(jì)生產(chǎn)制造的全過程中把程序流程做進(jìn)來。優(yōu)勢(shì)是：程序流程靠譜、低成本。缺陷：大批量規(guī)定大，每一次改動(dòng)程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產(chǎn)制造，交貨期長(zhǎng)。隨著沖版量的不斷增加和空氣中的CO2不斷溶入，顯影液中的OH-濃度會(huì)下降，pH值將越來越低，顯影時(shí)間應(yīng)慢慢變長(zhǎng)，至后在正常曝光條件下PS版無法顯影，這就是顯影液疲勞的現(xiàn)象。 

選定的圖像、圖形或?qū)ο笥糜谧钃跻烟幚淼膱D像(全部或部分)，以控制圖像處理區(qū)域或過程。用于覆蓋的特定圖像或?qū)ο蠓Q為遮罩或模板。在光學(xué)圖像處理中，掩?？梢允潜∧?、濾光器等。在數(shù)字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時(shí)也使用多值圖像。