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NR29 25000P光刻膠廠家按需定制 北京賽米萊德

發(fā)布時(shí)間:2021-07-23 15:27  

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光刻膠市場

全球光刻膠市場擴(kuò)增,對光刻膠的總需求不斷提升。據(jù)估計(jì),2015年國際光刻膠市場達(dá)73.6億美元,其中PCB光刻膠占比24.5%,LCD光刻膠占26.6%,半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%。而細(xì)化到半導(dǎo)體用光刻膠市場,國內(nèi)企業(yè)份額不足30%,與國際水平存在較大差距。2010年到2015年期間,國際光刻膠市場年復(fù)合增長率約為5.8%;據(jù)中國產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)數(shù)據(jù),2015年,PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠的國際市場增速均在5%左右。在下游產(chǎn)業(yè)的帶動(dòng)下,江瀚咨詢預(yù)計(jì)國際光刻膠市場規(guī)模在2022年可能突破100億美元。


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四、前烘(Soft Bake)

完成光刻膠的涂抹之后,需要進(jìn)行軟烘干操作,這一步驟也被稱為前烘。前烘能夠蒸發(fā)光刻膠中的溶劑溶劑、能使涂覆的光刻膠更薄。

在液態(tài)的光刻膠中,溶劑成分占65%-85%。雖然在甩膠之后,液態(tài)的光刻膠已經(jīng)成為固態(tài)的薄膜,但仍有10%-30%的溶劑,容易沾污灰塵。預(yù)計(jì)2017和2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場將分別達(dá)到15。通過在較高溫度下進(jìn)行烘培,可以使溶劑從光刻膠中揮發(fā)出來(前烘后溶劑含量降至5%左右),從而降低了灰塵的沾污。同時(shí),這一步驟還可以減輕因高速旋轉(zhuǎn)形成的薄膜應(yīng)力,從而提高光刻膠 襯底上的附著性。

在前烘過程中,由于溶劑揮發(fā),光刻膠厚度也會(huì)減薄,一般減薄的幅度為10%-20%左右。


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NR9-3000PY 負(fù)性光刻膠

負(fù)膠 NR9-3000PY 被設(shè)計(jì)用于i 線(365 nm)曝光,可使用如步進(jìn)光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻

和接觸式光刻等工具。

顯影之后,NR9-3000PY 展現(xiàn)出一種倒梯形側(cè)壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。

NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢:

- 優(yōu)異的分辨率性能

- 快速地顯影

- 可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度

- 耐受溫度100℃

- 室溫儲(chǔ)存保質(zhì)期長達(dá)3 年

Lift-Off工藝

應(yīng)用領(lǐng)域:LEDs,OLEDs,displays,MEMS,packaging,biochips。

濕法蝕刻,鍍 干法蝕刻(RIE/Ion Milling/Ion implantation)

附著力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C

Resist Thickness NR9-3000PY 負(fù)性光刻膠

負(fù)膠 NR9-3000PY 被設(shè)計(jì)用于i 線(365

nm)曝光,可使用如步進(jìn)光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻