點(diǎn)可蒸發(fā)任何材料薄膜純度高直接作用于材料表面，熱

缺點(diǎn)電子槍結(jié)構(gòu)復(fù)雜，造價(jià)高化合物沉積時(shí)易分解，化學(xué)比失調(diào)

3激光蒸發(fā)鍍膜

采用高能激光束對(duì)材料進(jìn)行蒸發(fā)，用以形成薄膜的方法，一般稱為激光蒸鍍。

優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高蒸發(fā)速率高特別適合蒸發(fā)成分復(fù)雜的合金或化合物，膜層的化學(xué)計(jì)量比與靶材保持一致

缺點(diǎn)

    易產(chǎn)生微小顆粒飛濺，影響薄膜質(zhì)量

蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線方向運(yùn)動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。由于真空罩內(nèi)充有惰性氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的離子受陰極負(fù)高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。

氮化鉻涂層 （CrN）

CrN涂層具有良好的抗粘結(jié)性，抗腐蝕性，耐磨性。

用途：加工鋁合金，紅銅的刀具，注塑模具，零件（特別是有潤(rùn)滑油浸泡）

5）DLC

DLC涂層的組成為TIN TICN DLC結(jié)構(gòu)。具有摩擦系數(shù)較低，

耐磨損，膜層應(yīng)力小好等優(yōu)點(diǎn)

用途：潤(rùn)滑涂層，成型模具，鋁合金等粘結(jié)性強(qiáng)材料沖壓模具。

6）ZrN

ZrN不含Ti和Cr的單成膜，有較高的耐熱性，涂層顏色艷麗，在加工鋁鈦合金時(shí)可有效減少切削瘤

基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

b、壓強(qiáng)的大小. 為了保證膜層質(zhì)量,壓強(qiáng)應(yīng)盡可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(zhǎng)(cm)。

c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí),沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結(jié)構(gòu)疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結(jié)構(gòu)均勻致密,機(jī)械強(qiáng)度高,膜層內(nèi)應(yīng)力大.

d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結(jié)晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí),則沒有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無定形態(tài)薄膜.