佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

真空鍍膜之磁控濺射鍍膜 ：磁控濺射的基本原理就是以磁場改變電子運動方向， 束縛和延長電子的運動軌跡， 從而提高了電子對工作氣體的電離幾率和有效地利用了電子的能量。真空鍍膜技術優(yōu)點主要表現(xiàn)在以下幾個方面：5、改善表面硬度，原塑膠表面比金屬軟而易受損害，通過真空鍍膜技術，硬度及耐磨性大大增加。因此在形成高密度等離子體的異常輝光放電中正離子對靶材轟擊所引起的靶材濺射更加有效，同時受正交電磁場的束縛的電子只能在其能量將要耗盡時才能沉積在基片上。這就是磁控濺射具有 “低溫”、“高速”兩大特點的機理。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響 ：

偏壓：偏壓施加于工件上，在輝光清洗時工件（陰極）與爐體之間產(chǎn)生輝光放電，部分氣被電子離化產(chǎn)生離子，離子（帶正電）在負偏壓作用下受工件吸引轟擊清洗工件表面，偏壓越大，對工件的轟擊凈化越干凈，但同時工件本身的溫升也越大，特別是尖角位棱角位置；在離子轟擊中用于加速離子，提高離子轟擊工件表面的能量，去除表面氧化層和吸附物，達到提高膜層結合力的作用。濺射的鍍料原子不是靠加熱方式蒸發(fā)，而是靠陰極濺射由靶材獲得沉積原子。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響 ：

在膜層沉積時，用于增加離子能量，促進和改善薄膜生長，提高膜基結合力。

偏壓越大離子附加能量越強，沉積過程中對膜層的轟擊凈化作用越明顯，膜層越致密，同時顏色會越淺，膜層L值（亮度）會增加，顯微硬度會增加、同時膜層外觀粗糙度會變差，沉積過程中工件和膜層溫升越大，偏壓太大可能使工件變形受傷，或產(chǎn)生熱應力崩膜。

有機鍍膜與無機鍍膜的根本區(qū)別

真正的玻璃鍍膜應為純無機質(zhì)成分，成膜后不應含有任何j基團（CH3）。利用紅外線光譜吸收分析法，可以了解各種鍍膜原料的內(nèi)部化學成分，這是區(qū)別真假無機質(zhì)鍍膜產(chǎn)品的重要科學依據(jù)。