相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學(xué)器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設(shè)備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學(xué)器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設(shè)備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。凈化工程的一般施工程序：粉塵作業(yè)，無塵作業(yè)后，不允許交叉作業(yè)。 否則會影響項目的質(zhì)量。 也就是說，在完成所有粉塵產(chǎn)生操作之后，可以進行無塵操作。濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。

1級：主要應(yīng)用于電子工業(yè)，這是目前對凈化工程要求高的環(huán)境，集成電路要求的精度要達到亞微米。隨著微電子工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的突飛猛進，對潔凈室的要求越來越高。及時生產(chǎn)間內(nèi)的例子直徑僅有1微米，也會使產(chǎn)品壽命受到影響。凈化工程技術(shù)的興起不過是上個世紀的事情，但今天凈化技術(shù)發(fā)揮著重要作用則是有目共睹的。隨著產(chǎn)品向著好的方向發(fā)展，對凈化車間的依賴度也越來越高。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。