光刻膠：用化學反應進行圖像轉(zhuǎn)移的媒介

光刻膠具有光化學敏感性，其經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到待加工基片。

光刻膠和集成電路制造產(chǎn)業(yè)鏈的前端的即為光刻膠化學品，生產(chǎn)而得的不同類型的光刻膠被應用于消費電子、家用電器、信息通訊、汽車電子、航空航天等在內(nèi)的各個下游終端領(lǐng)域，需求較為分散。

光刻膠基于應用領(lǐng)域不同一般可以分為半導體集成電路（IC）光刻膠、 PCB光刻膠以及LCD光刻膠三個大類。其中，負性光刻膠生產(chǎn)廠家， PCB光刻膠占市場24.5%，半導體IC光刻膠占市場24.1%，LCD光刻膠占市場26.6%。

LCD市場助力

LCD面板總出貨面積增長，負性光刻膠報價，LCD光刻膠需求增加。據(jù)WitsView數(shù)據(jù)，雖然近三年國際LCD廠商面板出貨量有所下降，但是由于大屏顯示的市場擴增，LCD整體出貨面積變大，2016年出貨總面積達到1.7億平方米，同比增長4.6%。隨著LCD出貨面積的持續(xù)增長，中國產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)預測，未來幾年LCD光刻膠的需求量增長速度為4%~6%。隨著國內(nèi)廠商占據(jù)LCD市場比重越來越大，負性光刻膠哪家好，國內(nèi)LCD光刻膠需求也會持續(xù)增長。

光刻膠底膜處理：清洗：清潔干燥，使硅片與光刻膠良好的接觸。烘干：去除襯底表面的水汽，使其干燥，增粘處理(涂底)： 涂上增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物，HMDS，甘肅負性光刻膠，光刻膠疏水，Sio2 空氣中，Si-OH， 表面有，親水性，使用HMDS （H2C）6Si2NH 涂覆，熏蒸  與 SI –OH結(jié)合形成Si-O-Si(CH2)2，與光刻膠相親。

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