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發(fā)布時間:2020-12-26 16:20  

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小粒徑研磨砂的去除效率較低,粗磨段加工時間長。折中以上因素,同時考慮到LED襯底片背面粗糙度(Ra~1um)的要求,業(yè)內通常使用240#碳化硼(B4C)研磨砂作為磨料,此類砂的粒徑為56~64 um。

它們與去離子水形成砂漿,對藍寶石C向晶片進行雙面粗磨。

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游離磨料加工過程中的理想狀態(tài)及大顆粒侵入引起載荷的變化與表面損傷圖中:(a)理想狀態(tài)(b)剛性磨具加工時硬質大顆粒侵入(c)彈性磨具加工時硬質大顆粒侵入。

 針對單晶藍寶石這種大批盤生產的硬脆難加工的材料能獲得無損超光滑表面,本文提出了在拋光時采用樹脂銅盤的概念。


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       作為半導體芯片基礎材料的單品硅片和藍寶石襯底片,上個世紀九十年代由于研拋階段加工用研磨盤、游星輪等產品完全依賴日本、美國、德圍等國家進口,極大地限制了我們半導體事業(yè)的快速發(fā)展。游星牌”系列產品為我國精密研磨拋光行業(yè),專用設備附件取代進口同類產品開除了先河,有力地促進了我圈電子信您行業(yè)的高速發(fā)展。游星輪廠家與您分享平面拋光機在拋光過程中如何使用拋光蠟和拋光輪平面拋光機將輪轉向朝自己,并全速運轉。公司乘承“走科技效益道路,創(chuàng)用戶滿意品牌”的指導方針,為行業(yè)提供的產品和專業(yè)化的服務。

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