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發(fā)布時(shí)間:2022-03-10 03:11  





光刻膠是什么材料
光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域。
1、光刻膠的技術(shù)復(fù)雜,品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理,可分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠。反之,對(duì)某些溶劑是不可溶的,無機(jī)光刻膠價(jià)格,經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。
2、普通的光刻膠在成像過程中,由于存在一定的衍射、反射和散射,降低了光刻膠圖形的對(duì)比度,從而降低了圖形的分辨率。隨著曝光加工特征尺寸的縮小,入射光的反射和散射對(duì)提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高曝光系統(tǒng)分辨率的性能,無機(jī)光刻膠,人們正在研究在曝光光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術(shù)。該技術(shù)的引入,可明顯減小光刻膠表面對(duì)入射光的反射和散射,從而改善光刻膠的分辨率性能,但由此將引起工藝復(fù)雜性和光刻成本的增加。

光刻膠介紹
光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導(dǎo)體光刻膠的技術(shù)壁壘較高。
從技術(shù)水平來看,在PCB領(lǐng)域,國(guó)產(chǎn)光刻膠具備了一定的技術(shù)和量產(chǎn)能力,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)對(duì)主流廠商大批量供貨。
賽米萊德以誠(chéng)信為首 ,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售光刻膠,無機(jī)光刻膠生產(chǎn)廠家,公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營(yíng)理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!

光刻膠分類
1、負(fù)性光刻膠
主要有聚酸系(聚酮膠)和環(huán)化橡膠系兩大類,前者以柯達(dá)公司的KPR為代表,后者以O(shè)MR系列為代表。
2、正性光刻膠
主要以重氮醒為感光化臺(tái)物,以酚醛樹脂為基本材料。的有AZ-1350系列。正膠的主要優(yōu)點(diǎn)是分辨率高,缺點(diǎn)是靈敏度、耐刻蝕性和附著性等較差。
3、負(fù)性電子束光刻膠
為含有環(huán)氧基、乙烯基或環(huán)硫化物的聚合物。 的是COP膠,典型特性:靈敏度0.3~0.4μC/cm^2 (加速電壓10KV時(shí))、分辨率1.0um、 對(duì)比度0.95。限制分辨率
的主要因素是光刻膠在顯影時(shí)的溶脹。
4、正性電子束光刻膠
主要為甲酯、烯砜和重氮類這三種聚合物。的是PMMA膠,典型特性:靈敏度40~ 80μC/cm^2 (加速電壓20KV時(shí))、分辨率0.1μm、 對(duì)比度2~3。
PMMA膠的主要優(yōu)點(diǎn)是分辨率高。主要缺點(diǎn)是靈敏度低,此外在高溫下易流動(dòng),耐干法刻蝕性差。

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