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發(fā)布時(shí)間:2021-03-18 15:54  
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解析應(yīng)用于半導(dǎo)體封裝清洗之中性水基清洗技術(shù)|合明科技
半導(dǎo)體作為現(xiàn)代電子工業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)及支撐,在電子工業(yè)的應(yīng)用和所選用的材料也越來(lái)越廣泛。隨著第五代(5G)移動(dòng)通信技術(shù)的快速發(fā)展,5G半導(dǎo)體芯片工作頻率越來(lái)越高,尺寸越來(lái)越小,集成度越來(lái)越高,這對(duì)半導(dǎo)體封裝清洗業(yè)的關(guān)注度和清洗的可靠性也越來(lái)越高。
半導(dǎo)體器件封裝過(guò)程中會(huì)使用助焊劑和錫膏等作為焊接輔料,這些焊接輔料在焊接過(guò)程中或多或少都會(huì)產(chǎn)生殘留物,并且在制程中也會(huì)沾污一些污染物,例如指印、汗液、角質(zhì)和塵埃等。表面的助焊劑殘留物和污染物在空氣氧化和濕氣作用下,容易腐蝕器件,造成不可逆損傷,影響器件的穩(wěn)定性甚至失效。
為了確保半導(dǎo)體器件的品質(zhì)和高可靠性,必須在封裝工藝引入清洗工序和使用清洗劑。
目前半導(dǎo)體器件封裝業(yè)的清洗劑主要是采用堿性水基清洗劑和中性水基清洗劑。
半導(dǎo)體封裝焊接輔料殘留物主要是松香和有機(jī)酸,松香和有機(jī)酸都含有羧基能與堿性清洗劑中的堿性成分發(fā)生皂化反應(yīng)生成有機(jī)鹽,因此堿性清洗劑對(duì)半導(dǎo)體器件的助焊劑殘留物有良好的清洗效果。
但隨著半導(dǎo)體的發(fā)展和特殊功能的需求,一些器件上組裝了鋁、銅、鉑、鎳等敏感金屬、油墨字符和特殊標(biāo)簽等相當(dāng)脆弱的功能材料。這些敏感金屬和特殊功能材料在堿性環(huán)境下,容易被氧化變色或溶脹、變形和脫落等,因此限制了堿性水清洗劑在半導(dǎo)體封裝清洗業(yè)的廣泛使用。
中性水基清洗劑主要通過(guò)表面活性劑對(duì)焊接殘留的滲透和剝離作用,促使助焊劑或焊膏殘留從半導(dǎo)體器件表面脫落,溶解到溶劑或者水中,從而達(dá)到清洗目的。中性清洗劑因pH中性,所以對(duì)銅、鋁等敏感金屬、特殊功能材料和油墨字符等具有很好的兼容性,并且有利于后續(xù)的廢水處理,更容易獲得排放許可。
總的來(lái)說(shuō),堿性水基清洗劑和中性水基清洗劑因清洗機(jī)理不一,導(dǎo)致最終的清洗效果不同。大體上,堿性水基清洗劑清洗力比中性水基清洗劑更強(qiáng),中性水基清洗劑比堿性水基清洗劑兼容性更好。具體采用哪種清洗劑進(jìn)行半導(dǎo)體封裝清洗,需要根據(jù)所清洗對(duì)象的特性來(lái)選擇。
以上一文,僅供參考!
合明科技Unibright 專(zhuān)注芯片封裝、 SMT/DIP工藝制程清洗水基技術(shù)
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