ZL205A微弧氧化膜層耐蝕性能研究

利用硅酸鹽復(fù)合電解液體系，在ZL205A上采用微弧氧化法制備膜層。

所用的工藝參數(shù)為：恒流控制，電流密度3 A/dm^2，頻率500 Hz，終止電壓450 V。利用掃描電鏡對該膜層的形貌及結(jié)構(gòu)進行分析；對膜層的化學(xué)成分進行分析；采用極化曲線評價膜層的耐蝕性。

結(jié)果表明：所制備的微弧氧化膜層能提高ZL205A的耐蝕性。

微弧氧化(Microarc oxidation， MAO)又稱等離子體電解氧化(Plasma electrolytic oxidation， PEO)、微等離子體氧化(Microplasma oxidation，htc微弧氧化技術(shù)， MPO)等，微弧氧化技術(shù)設(shè)備，是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。

微弧氧化工藝

微弧氧化工藝技術(shù)是直接在有色金屬表面原位生成陶瓷層的新技術(shù)。微弧氧化工藝技術(shù)工藝簡單，對環(huán)境污染小，微弧氧化技術(shù)，具備很大的性，它制備的膜層特點鮮明，膜層與基體金屬屬于冶金結(jié)合，結(jié)合牢固，在制備涂層方面具有明顯優(yōu)勢，微弧氧化技術(shù)已被廣泛應(yīng)用于Al、Ti 和Mg等金屬行業(yè)，是一種很有前景的表面處理工藝。

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