研磨分為手工研磨和機(jī)械研磨。手工研磨平面時(shí)，研磨劑涂在研磨平板(研具)上，手持工件作直線往復(fù)運(yùn)動(dòng)或“8”字形運(yùn)動(dòng)。研磨一定時(shí)間后，將工件調(diào)轉(zhuǎn)90°～180°，以防工件傾斜。對(duì)于工件上局部待研的面、方孔、窄縫等表面，也可手持研具進(jìn)行研磨。批量較大的簡(jiǎn)單零件上的平面亦可在平面研磨機(jī)上研磨。研磨平面研磨凹槽。

擊釘端面平面研磨目的

平面研磨不僅是磨料對(duì)金屬，陶瓷的機(jī)械加工過(guò)程，同時(shí)還有化學(xué)作用。研磨液中的油脂能是被加工的表面形成氧化膜，從而加速了研磨過(guò)程。

平面研磨的基本原理

密封面平面研磨的基本原理包括平面研磨過(guò)程、平面研磨運(yùn)動(dòng)、平面研磨速度、平面研磨壓力及平面研磨余量五個(gè)方面。

平面研磨不僅是磨料對(duì)工件的機(jī)械加工過(guò)程，同時(shí)還有化學(xué)作用。研磨液中的油脂能是被加工的表面形成氧化膜，從而加速了研磨過(guò)程。

檢驗(yàn)方法：          

a. 外觀依公司外觀基準(zhǔn)及限度樣品或相關(guān)說(shuō)明進(jìn)行判定。    

b. 面精度依《作業(yè)標(biāo)準(zhǔn)書(shū)》要求用原器或干涉儀進(jìn)行檢測(cè)并依照作業(yè)標(biāo)準(zhǔn)書(shū)的要求作判定，原器使用注意：檢測(cè)時(shí)應(yīng)使用面檢鏡片，輕壓勿推，防止對(duì)原器造成傷痕，且面檢鏡片應(yīng)定期更換。   

c. 研磨量檢測(cè)依《作業(yè)標(biāo)準(zhǔn)書(shū)》要求用手抻或百分表進(jìn)行測(cè)量并判定。    

d. 研磨液濃度測(cè)量依《作業(yè)標(biāo)準(zhǔn)書(shū)》要求用濃度計(jì)進(jìn)行測(cè)量并判定。    

 e. 研磨液PH值依《作業(yè)標(biāo)準(zhǔn)書(shū)》要求用PH試紙進(jìn)行測(cè)量并判定。

研磨的分類(lèi)

（1）按研磨劑使用的條件，可以把研磨分成三類(lèi)：干研、濕研和半干研。

干研：干研可獲得很高的加工精度和較低的表面粗糙度，但研磨效率較低，一般用于精研。

濕研：濕研的金屬切除率高，高于干研5倍以上，但加工表面幾何形狀和尺寸精度不如干研。

多用于粗研和半粗研。

半干研：粗、精研磨均可采用。

（2）按加工表面形狀不同，可以把研磨分為平面研磨、外圓研磨、內(nèi)孔研磨、球面研磨、螺紋研磨、成形表面研磨、嚙合表面輪廓研磨等。

（3）按操作方法不同，可以把研磨分為手工研磨、機(jī)械研磨。